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Item 987654321/90474
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題名:
開發複合金屬薄膜蝕刻製程用於A世代元件製程
;
Development of Plasma Ion Etching Composite Metal Process and Generation a Device Process
作者:
李雄朱
貢獻者:
國立中央大學機械工程學系
關鍵詞:
A世代元件製程
;
電漿離子蝕刻先進製程與設備
;
電化學加工
;
複合金屬薄膜
;
Generation A device process
;
Plasma Reactive Ion Etching
;
Electrochemical Machining
;
composite metal films
日期:
2023-03-08
上傳時間:
2023-03-08 15:51:45 (UTC+8)
出版者:
國家科學及技術委員會
摘要:
社會面:自主建置電漿離子蝕刻系統設備,可提昇國內產學界掌握更多關鍵設備核心技術,對整體社會人才的培育有正面的貢獻。 2.經濟面:有效改善業界的技術瓶頸與量產穩定性的疑慮,提升整體製造業的經濟價值。 3.學術發展面:藉由專業學術期刊的閱讀與解析,透過學術研究平台創造學界與業界的新知識,並嶄露出更高層次的技術貢獻。
關聯:
財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:
[機械工程學系] 研究計畫
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