中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/93982
English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 80990/80990 (100%)
Visitors : 40470844      Online Users : 291
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
Scope Tips:
  • please add "double quotation mark" for query phrases to get precise results
  • please goto advance search for comprehansive author search
  • Adv. Search
    HomeLoginUploadHelpAboutAdminister Goto mobile version


    Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/93982


    Title: 化學機械平坦化之二氧化鈰分散劑開發;Development of Ceo2 Dispersants for Chemical Mechanical Planarization
    Authors: 黃俊仁
    Contributors: 國立中央大學化學工程與材料工程學系
    Keywords: 化學機械平坦化;二氧化鈰;分散劑;膠體化學;聚電解質高分子;Chemical mechanical planarization;ceria;dispersant;colloidal chemistry;polyelectrolytes
    Date: 2024-09-27
    Issue Date: 2024-09-30 14:23:03 (UTC+8)
    Publisher: 國家科學及技術委員會(本會)
    Abstract: CMP漿料為半導體供應鏈的重要戰略產品,本計畫將開發新型水性聚電解質高分子分散劑作為CeO2漿料重要組成,目標是達到漿料高穩定性、高拋除選擇性與低刮痕,從高分子材料與界面科學到分散劑開發,將可帶來新的啟發與擴大學理與應用發展。我們致力開發各式界面化學與離子型高分子研究,扮演生醫與電子材料研發上關鍵技術上的一環,提升台灣特用化學產業的競爭力。隨著計劃的執行,參與計畫的研究人員與學生將接受到最扎實的高分子材料與界面科學的訓練,將成為產業的種子人才,提升社會經濟的發展。
    Relation: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    Appears in Collections:[Department of Chemical and Materials Engineering] Research Project

    Files in This Item:

    File Description SizeFormat
    index.html0KbHTML23View/Open


    All items in NCUIR are protected by copyright, with all rights reserved.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明