參考文獻 |
Chapter 1 Introduction
[1] H. P. Maruska, and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett., 15, 327 (1969)
[2] J. I. Pankove, E. A. Miller, D. Richman, and J. E. Berkeyheiser, J. Luminescence, 4, 63 (1971)
[3] H. P. Maruska, W. C. Rhines, and D. A. Stevenson, Mat. Res. Bull., 7, 777 (1972)
[4] H. P. Maruska, D. A. Stevenson, and J. I. Pankove, Appl. Phys. Lett., 22, 303 (1973)
[5] H. Amano, M. Kito, K. Hiramatsu, and I. Akasaki, Jpn. J. Appl. Phys., 28, L2112 (1989)
[6] S. Nakamura, N. Iwasa, and M. Senoh, US patent 5306662 (1994)
[7] I. Akasaki, H. Amano, K. Itoh, N. Koide, and K. Manabe, Inst. Phys.Conf. Ser., 129, 851 (1992)
[8] S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys., 32, L8 (1993)
[9] S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Appl. Phys. Lett., 62, 2390 (1993)
[10] S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Appl. Phys. Lett., 64, 1687 (1994)
[11] S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Jpn. J. Appl. Phys., 34, L797 (1995)
[12] X. Guo, J. W. Graff, and E. F. Schubeert, IEDM Technical Digest, IEDM-99, 600 (1999)
[13] S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed., 255-258, Wiley, New York
[14] F. A. Padovani and R. Stratton, Solid-State Electron., 9, 695 (1966)
[15] C. R. Crowell and V. L. Rideout, Solid-State Electron., 12, 89 (1969)
[16] M. Miyachi, T. Tanaka, Y. Kimura, H. Ota, Appl. Phys. Lett., 72, 1101 (1998)
[17] S. Nakamura, T. Mukai, M. Senoh, N. Iwasa, Jpn. J. Appl. Phys., 31 139 (1992)
[18] J. K. Ho, C. S. Jong, C. C. Chiu, C. N. Huang, and K. K. Shih, J. of Appl. Phys., 86 , 4491 (1999)
[19] H. L. Kwok, Electronic Materials, 240, PWS Publishing Company, Boston
[20] V. M. Bermudez, J. Appl. Phys., 80, 1190 (1996)
[21] D. K. Schroder, Semiconductor Material and Device Characterization, 145~ 157, Wiley, New York
[22] G. T. Chen, C. C. Pan, C. S. Fang, T. C. Huang, and J. I. Chyi, Appl. Phys. Lett., 85, 2797 (2004)
[23] L. C. Chen, J. K. Ho, F. R. Chen, J. J. Kai, L. Chang, C. S. Jong, C. C. Chiu, C. N. Huang, and K. K. Shih, Phys. Stat. Sol. A, Appl. Res., 176, 773 (1999)
[24] Z. Hassan, Y. C. Lee, F. K. Yam, Z. J. Yap, N. Zainal, H. Abu Hassan, and L. Ibrahim, Phys. Stat. Sol. (c), 1, 2528 (2004)
[25] D. W. Kim, and C. R. Lee, Journal of Crystal Growth, 286, 235 (2006)
[26] Y. Gao, T. Fujii, R. Sharma, K. Fujito, S. P. Denbaars, S. Nakamura, and E. L. Hu, Jpn. J. Appl. Phys., 43, L637 (2004)
[27] M. Alexe, and U. GÖsele, Wafer Bonding Application and Technology, Chap. 10, Springer, Berlin
[28] P. H. Chen, C. L. Lin, and C. Y. Liu, Appl. Phys. Lett, 90,132120 (2007)
[29] F. Shi, K. L. Chang, J. Epple, C. F. Xu, K. Y. Cheng, and K. C. Hsieh, J. Appl. Phys., 92, 7544 (2002)
[30] F. Shi, H. Chen, and S. Maclaren, Appl. Phys. Lett., 84, 3504 (2004)
[31] K. N. Chen, A. Fan, C. S. Tan, R. Reif, and C. Y. Wen, Appl. Phys. Lett., 81, 3774 (2002)
[32] U. GÖsele, Y. Bluhm, G. Kästner, P. Kopperschmidt, G. Kräuter, R. Scholz, A. Schumacher, S. Senz, and Q. Y. Tong, Y. L. Chao, and T. H. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A, 17, 1145 (1999)
[33] H. B. Huntington, Diffusion in Solids: Recent Development, edited by A. S. Nowick and J. J. Burton, 303~352, Academic Press, New York (1979)
[34] W. S. Wong, T. Sands, N. W. Cheung, M. Kneissl, D. P. Bour, P. Mei, L. T. Romano, and N. M. Johnson, Appl. Phys. Lett., 75, 1360 (1999)
[35] D. S. Wuu, S. C. Hsu, S. H. Huang, and R. H. Horng, Phys. Stat. Sol. A, Appl. Res., 201, 2699 (2004)
[36] W. S. Wong, T. Sands, and N. W. Cheung, Appl. Phys. Lett.,72, 599 (1998)
[37] N. Newman, J. Ross, and M. Rubin, Appl. Phys. Lett., 62, 1242 (1993)
[38] C. R. Miskys M. K. Kelly, O. Ambacher, and M. Stutzmann, Phys. Stat. Sol. (c), 0, 1627 (2003)
Chapter 2 High-thermal-stability and Low-resistance p-GaN Contacts for Thin-GaN Light Emitting Diodes
[1] D. A. Steigerwald, J. C. Bhat, D. Collins, R. M. Fletcher, M. O. Holcomb, M. J. Ludowise, P. S. Martin, and S. L. Rudaz, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 8, 310 (2002)
[2] http://www.cree.com/News/news175.asp
[3] T. Fujii, Y. Gao, R. Sharma, E. L. Hu, S. P. DenBaars, and S. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 84, 855 (2004)
[4] D. A. Steigerwald, J. C. Bhat, D. Collins, R. M. Fletcher, M. O. Holcomb, M. J. Ludowise, P. S. Martin, and S. L. Rudaz, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron., 8, 310 (2002)
[5] T. Fujii, Y. Gao, R. Sharma, E. L. Hu, S. P. DenBaars, and S. Nakamura, Appl. Phys. Lett., 84, 855 (2004)
[6] Soo Young Kim and Jong-Lam Lee, Electrochem. Solid-State Lett., 7, G102 (2004)
[7] H. W. Jang, and J. L. Lee, Appl. Phys. Lett., 85, 5920 (2004)
[8] H. C. Kim and T. L. Alford, J. of Appl. Phys., 94 , 5393 (2003)
[9] W. S. Wong, T. Sands, N. W. Cheung, M. Kneissl, D. P. Bour, P. Mei, L. T. Romano, and N. M. Johnson, Appl. Phys. Lett. 75, 1360 (1999)
[10] D. S. Wuu, S. C. Hsu, S. H. Huang, and R. H. Horng, Phys. Stat. Sol. A, Appl. Res., 201, 2699 (2004)
[11] W. S. Wong, T. Sands, and N. W. Cheung, Appl. Phys. Lett. 72, 599 (1998)
[12] N. Newman, J. Ross, and M. Rubin, Appl. Phys. Lett. 62, 1242 (1993)
[13] O. Ambacher, M. S. Brandt, R. Dimitrov, T. Metzger, M. Stutzmann, R. A. Fischer, A. Miehr, A. Bergmaier, G. Dollinger, J. Vac. Sci. Technol. B, 14, 3532 (1996)
[14] C. R. Miskys, M. K. Kelly, O. Ambacher, and M. Stutzmann, Phys. Stat. Sol. (c), 0, 1627 (2003)
[15] C. F. Chu, C. C. Yu, H. C. Cheng, C. F. Lin, and S. C. Wang, Jpn. J. Appl. Phys. 42, L147 (2003)
[16] S. C. Hsu and C. Y. Liu, Electrochem. Solid-State Lett., 9, G171 (2006)
[17] J. K. Ho, C. S. Jong, C. C. Chiu, C. N. Huang, C. Y. Chen, and K. K. Shih, Appl. Phys. Lett., 74, 1275 (1999)
[18] D. L. Hibbard, S. P. Jung, C. Wang, D. Ullery, Y. S. Zhao, W. So, H. Liu, and H. P. Lee, Appl. Phys. Lett., 83, 311 (2003)
[19] K. N. Tu, J. W. Mayer, and L. C. Feldman, Electronic Thin Film Science for Electrical Engineers and Materials Scientists, Chap.12, Macmillan, New York
[20] L. J. Kecskes, S. T. Szewczyk, A. B. Peikrishvili, and N. M. Chikhradze, Metall. Mater. Trans. A, 35, 1125 (2004)
[21] W. Liu, and J. N. Dupont, Metall. Mater. Trans. A, 34, 2633 (2003)
Chapter 3 Thin-GaN LED Fabrication
[1] H. X. Jiang, S. X. Jin, J. Li, J. Shakya, and J. Y. Lin, Appl. Phys. Lett., 78, 1303 (2001)
[2] Y. Kawakami, Y. Narukawa, K. Omae, Sg Fujita and S. Nakamura, Phys. Stat. Sol. A, Appl. Res., 178, 331 (2000)
[3] T. Nishida, H. Saito and N. Kobayashi, Appl. Phys. Lett., 79, 711 (2001)
[4] H. Kim, S. J. Park, and H. Hwang, IEEE Tran. Electron Devices, 48, 1065 (2001)
Chapter 4 The Light Enhancement of Oxide Honeycomb Structures on thin-GaN Light-Emitting Diodes
[1] S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. I. Nagahama, Jpn. J. Appl. Phys., 34, 797 (1995)
[2] H. X. Jiang, S. X. Jin, J. Li, J. Shakya and J. Y. Lin, Appl. Phys. Lett., 78, 1303 (2001)
[3] E. F. Schubert, Light-Emitting Diodes, 84, Cambridge University Press, Cambridge
[4] K. Tadatomo, H. Okagawa, Y. Ohuchi, T. Tsunekawa, Y. Imada, M. Kato and T. Taguchi, Jpn. J. Appl. Phys., 40, 583 (2001)
[5] S. J. Chang, Y. C. Lin, Y. K. Su, C. S. Chang, T. C. Wen, S. C. Shei, J. C. Ke, C. W. Kuo, S. C. Chen, and C. H. Liu, Solid-State Electronics, 47, 1539 (2003)
[6] Y. Kawakami, Y. Narukawa, K. Omae, Sg Fujita and S. Nakamura, Phys. Stat. Sol. A, Appl. Res., 178, 331 (2000)
[7] T. Nishida, H. Saito and N. Kobayashi, Appl. Phys. Lett., 79, 711 (2001)
[8] R. Windisch, B. Dutta, M. Kuijk, A. Knobloch, S. Meinlschmidt, S. Schoberth, P. Kiesel, G. Borghs, G. H. Dohler, and P. Heremans, IEEE Trans. Electron Devices, 47, 1492 (2000)
[9] R. H. Horng, S. H. Huang, C. C. Yang, and D. S. Wuu, IEEE J. Sel. Top. Quantum. Electron, 12, 1196 (2006)
[10] C. C. Yang, R. H. Horng, C. E. Lee, W. Y. Lin, K. F. Pan, Y. Y. Su, and D. S. Wuu, Jpn. J. Appl. Phys., 44, 2525 (2005)
[11] C. H. Chan, C. C. Chen, C. K. Huang, W. H. Weng, H. S. Wei, H. Chen, H. T. Lin, H. S. Chang, W. Y. Chen, W. H. Chang, and T. M. Hsu, Nanotechnology, 16, 1440 (2005)
[12] C. K. Huang, C. H. Chan, C. Y. Chen, Y. L. Tsai, C. C. Chen, J. L. Han, and K. H. Hsieh, Nanotechnology, 18, 265305 (2007)
[13] E. Yablonovitch, J. Opt. Soc. Am, 72, 899 (1982) |