參考文獻 |
參考文獻
1. Shuji Nakamura, Takashi Mukai and Masayuki Senoh, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.30 p.1991 (1998)
2. Shuji Nakamura, Takashi Mukai and Masayuki Senoh, Appl. Phys. Lett., Vol.64, p.1687 (1994)
3. J.C. Carrano, T. Li, P. A. Grudowski, C. J. Eiting, R. D. Dupuis, and J.C. Campell, Appl. Phys. Lett., Vol.72, p.542 (1998)
4. C. Gaquiere, S. Trassert, B. Boudart, and Y. Crosnier, IEEE Microwave and Guided Wave Letters, Vol. 10, No.1 (2000)
5. R. J. Shul, G. B. McClellan, S. A. Casalnuovo, D. J. Rieger, S. J. Pearton, C. Consantine, C. Barratt, R. F. karlicek, Jr., C. Tran, and M.churman, Appl. Phys. Lett. Vol.69, p.1119 (1996)
6. C. Youtsey, I. Adesida and G. Bulman, Appl. Phys. Lett., Vol.71
p.2151 (1997)
7. L. H. Peng, C. W. Chuang, J. K. Ho, C. N. Huang, and C. Y. Chen ,
Appl. Phys. Lett., Vol.72, p.939 (1998)
8. S. M. SZE, “SEMICONDUCTOR DEVICES Physics and Technology ” pp.481~484
9. S. M. SZE, “SEMICONDUCTOR DEVICES Physics and Technology ” p.195~p.200
10. S. M. SZE, “SEMICONDUCTOR DEVICES Physics and Technology ” p.342
11. S. J. Pearton, J. C. Zolper, R. J. Shul and F. Ren, J. Appl. Phys. Vol.86, No.1 (Applied Physics Reviews, GaN: Processing, defects, and devices) p.1
12. H. C. Casey, Jr., G. G. Fountain and R. G. Alley, B. P. Keller and
Steven P. DenBaars, Appl. Phys. Lett., Vol.68, p.1850, (1996)
13. S. Arulkumaran, T. Egawa, H. Ishikawa, T. Jimbo, and M. Umeno, Appl. Phys. Lett., Vol.73, p.809 (1998)
14. B. Gaffey, Louis J. Guido, Senior Member, IEEE, X. W. Wang, Senior Member, IEEE, and T. P. Ma, Fellow, IEEE, IEEE Transactions on Electron Devices, Vol.48, p.458 (2001)
15. L. W. Tu, W. C. Kuo, K. H. Lee, P. H. Tsao, and C. M. Lai, A. K. Chu, J. K. Sheu, Appl. Phys. Lett., Vol.77, p.3788 (2000)
16. Tamotsu Hashizume, Egor Alekseev, and Dimitris Pavlidisb, Karim S. Boutros and Joan Redwing, J. Appl. Phys., Vol.88, p.1983 (2000)
17. D. J. Fu, Y. H. Kwon, T. W. Kang, C. J. Park, K. H. Baek, H. Y. Cho, and D. H. Shin and C. H. Lee and K. S. Chung, Appl. Phys. Lett., Vol.80, p.446 (2002)
18. T. S. Lay, W. D. Liu, M. Hong, J. Kwo and J. P. Mannaerts, Electronics Letters, Vol.37, p.595 (2001)
19. T. Kozawa, T. Kachi, T. Ohwaki, Y. Taga, N. Koide, and M. Koike, J. Electrochem. Soc. (USA) Vol.143, L17 (1996)
20. J. I. Pankove, J. Electrochem. Soc: (USA) Vol.119, p.1118 (1972)
21. M. Okubo, Jpn. J. Appl. Phys. (Japan) Vol.36, L955 (1997)
22. T. Rotter, D. Mistele, J. Stemmer, F. Fedler, J. Aderhold, and J. Graul, V. Schwegler, C. Kirchner, and M. Kamp, M. Heuken, Appl. Phys. Lett., Vol. 76, p.3923 (2000)
23. E. H. Chen, D. T. Mclnturff, T. P. Chin, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. Vol. 68, p.1678 (1996)
24. J. E. Borton, C. Cai and M. I. Nathan, P. Chow, J. M. Van Hove, and A. Wowchak, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett., Vol. 77, p.1227, (2000)
25. Dieter K. Schroder,“Semiconductor Material and Device Characterization” p.339
26. M. S. Minsky, M. White, and E. L. Hu, Appl. Phys. Lett. Vol. 68, p.1531 (1996)
27. Y. J. Lin, C. D. Tsai, Y. T. Lyu, and C. T. Lee, Appl. Phys. Lett., Vol. 77, No.5, p.687 ( 2000)
28. F. Tourtin, P. Armand, A. Ibanez, G. Tourillon, E. Philippot, Thin Solid Films Vol. 322, p.85 (1998)
29. Kensaku Yamamoto, Hiroyasu Ishikawa, Takashi Egawa, Takashi Jimbo, Masayoshi Umeno, Journal of Crystal Growth Vol. 189/190 p.575 (1998)
30. E. H. NICOLLIAN, J. R. BREWS, ”MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology, p.738~p.742
31. S. D. Wolter, B. P. Luther, D. L. Waltemyer, C. Önneby, and S. E. Mohney, R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett., Vol.70, p.2156, (1997)
32. T. Rotter, R. Ferretti, D. Mistele, F. Fedler, H. Klausing, J. Stemmer, O. K. Semchinova, J. Aderhold, J. Graul, Journal of Crystal Growth Vol. 230, p.602, (2001)
33. M. Passlack, E. F. Schubert, W. S. Hobson, M. Hong, N. Moriya, S. N. G. Chu, J. Appl. Phys. Vol.77, p.686, (1995)
34. Dieter K. Schroder,“Semiconductor Material and Device Characterization” p.390~391
35. Dieter K. Schroder,“Semiconductor Material and Device Characterization” p.389~390
36. S. M. SZE,“ Physics of Semiconductor Devices” chapter 7
37. A. Paskaleva, E. Atanassova, T. Dimitrova, Vacuum Vol. 58, p.470, (2000)
38. J. Y. Wu, P. W. Sae, Y. H. Wang, M. P. Houng, Solid-State Electronics Vol. 45, p.1999, (2001)
39. W. K. Choi, K. K. Han, and C. K. Choo, J. Appl. Phys., Vol.83, p.4810, (1998)
40. Dieter K. Schroder,“Semiconductor Material and Device Characterization” chapter 6
41. J. Tan, M. K. Das, J. A. Cooper, Jr. and M. R. Mellocha, Appl. Phys. Lett., Vol.70, p.2280, (1997)
42. N. S. Saks, J. Appl. Phys. Vo.74, p.3303, (1993) |