矩陣式多陽極即時影像局部電鍍控制系統之研究

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姓名

温雅絜(Ya-Chieh Wen) 查詢紙本館藏

畢業系所

光機電工程研究所

論文名稱

矩陣式多陽極即時影像局部電鍍控制系統之研究
(Real-time Image Feedback Control for Multiple-Anode Localized Electrochemical Deposition)

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摘要(中)

近幾年立體微結構物(the fabrications of 3D microstructure)被不同領域的人員重視，進而研究並應用於生物檢測技術或各種類型之感測器。本研究延續即時影像導引局部電化學電鍍的想法，希望發展一套矩陣式陽極自動電鍍系統。設計能適用於單根陽極電鍍、雙陽極電鍍及n×n矩陣式陽極電鍍的系統，解決在製作過程中的不可控制變因所造成的問題：因陰極沉積速率的不同而影響電鍍過程的運作。不可控制的變因主要來自於陽極的製造過程中，不論製作過程方法為何，每根陽極皆存在不同的因素，導致實驗時所使用的陽極：白金線暴露在鍍液的面積不同，而造成陰極的沉積速率有所差異。因此本研究透過自動對焦影像監控系統分析沉積物的即時情況，並藉由控制脈衝寬度調變(Pulse Width Modulation)的技術達成陰極上每根微柱的沉積速率相同。

矩陣式陽極電鍍系統分為三部分:第一部分為實現局部電化學電鍍，陽極的部分改變過去單根陽極的限制，製作2×2陽極，使陰極沉積出矩陣式微柱; 第二部分為自動對焦即時影像監控系統，第三部分是即時影像間距控制系統。第二部分使用單顆CCD及定焦鏡頭安裝於單軸控制平台，達成能夠自動對焦的影像監控系統，此影像監控系統適用於多根微陽極自動導引電鍍。第三部分，即時使用監控系統所分析出的資料，建立即時間距控制系統。

自動對焦影像監控系統經由個人桌上型電腦運算，利用影像處理方法定義出電鍍時陽極及陰極沉積微柱的位置，進而使用間距控制系統維持微電鍍時電鍍環境的運作順利，再透過單晶片微控制器控制多根微陽極各別的放電電壓，並應用控制理論於放電控制，有效達到陰極微柱的沉積速率一致。

摘要(英)

The fabrications of 3D microstructures have been studied by more and more researchers in past few years. However, most researchers focus on single column fabrication which is not sufficient for industrial manufacturing. This research proposes using a CCD to guide the fabrication for n×n microstructure columns. By using pulse width modulation (PWM) techniques and the control theory, the voltage of each column is modulated based on its image data to maintain the same growth rate.
In this research, we divided the system into three parts to introduce. First, the system is improved to realize Localized Electrochemical Deposition process by using multiple anodes. The second part is real-time auto-focus of monitoring system. Because of the distance from the object to the lens is different. The CCD and lens are installed on the single axis platform. Using the techniques of motor controlling and image processing to solve the problems. The last part is real-time image guide feedback control system. The main propose of this part is to maintain the distance between the anode and cathode. In order to control the distance, we use PWM techniques to adjust the average voltage. After the system can electroplate automatically, we apply the classical control theory into the process for maintaining the same growth rate.

關鍵字(中)

★ 局鍍電化學電鍍
★ 電鍍
★ 邊緣檢測
★ 自動對焦

關鍵字(英)

★ Localized Electrochemical Deposition
★ Autofocusing

論文目次

摘要 II
ABSTRACT IV
誌謝 V
目錄 VI
表目錄 VIII
圖目錄 IX

第一章緒論 1
1-1研究背景 1
1-2研究目的 3
1-3局部電化學原理 3
第二章實驗硬體設備 5
2-1系統架構 5
2- 2局部電化學沉積系統 6
2-2.1 陰陽極製作 7
2-2.2 循環系統 10
2-3 自動對焦即時影像監控系統 11
2-3.1 攝影機及鏡頭 11
2-3.2 光源 13
2-3.3 單軸移動平台 13
2-4 影像導引間距控制系統 14
2-4.1 放電控制模組 14
第三章系統軟體演算法 16
3- 1軟體介面 16
3- 2自動對焦即時影像監控系統演算法 18
3- 3影像導引間距運動控制系統演算法 22
第四章實驗結果與討論 28
4-1自動對焦即時影像監控系統實驗成果 28
4-2控制法則與實驗目地 31
4-2.1 加入控制法則之目的 32
4-2.2 加入控制法則之結果與討論 33
第五章結論與未來展望 43
參考文獻 47

參考文獻

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[15] 林耀仚，「動態自動對焦演算法」，國立交通大學電子研究所碩士論文 (2007)
[16] 游輝邦，「雙陽極即時影像微電鍍控制之研究」，國立中央大學機械工程研究所碩士論文(2016)

指導教授

黃衍任

審核日期

2018-4-12

推文