磁力研磨應用於放電加工表面改善之研究

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題名:	磁力研磨應用於放電加工表面改善之研究
作者:	張榮顯;Rong-Xian Chang
貢獻者:	機械工程研究所
關鍵詞:	磁力研磨;放電加工;穩健設計;表面粗糙度;田口法
日期:	2001-06-20
上傳時間:	2009-09-21 11:36:36 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	本篇論文主要是在研究非結合式磁性磨粒應用於外圓磁力研磨之研磨特性。非結合式磁性磨粒是將磁粒和SiC磨粒自由無拘束地混合在一起。由於SKD11試件經放電加工後，表面會產生一層再凝固層(Recasted Layer)，此凝固層的表面佈滿許多的蝕坑(Crater)與微裂紋，大大影響放電表面的品質、進而降低使用壽命，所以如何改善放電表面的品質，是吾人選擇此實驗的目的。傳統上改善放電表面品質的研磨方式，有擦光、拋光、輪磨等方式。然磁力研磨也是一種有效的表面研磨加工方法，它屬於較複雜的加工技術之一，由於此法中的各種加工參數如磨粒大小、磨粒混和比、磁通密度、加工間隙、加工時間、工件轉速及振動頻率等必須做出適當的控制才能發揮顯著的表面改善效果，所以我們將針對這些參數對磁力研磨特性的影響作深入分析，並利用田口實驗設計法進行放電試件表面研磨的實驗規劃，將實驗結果分析求出最佳表面粗糙度之加工參數組合。最後以最佳加工參數組合來驗證表面粗糙度是否與預估值接近。本研究亦追蹤探討研磨後試件表面之材料特性。由EPMA定量分析顯示利用混合SiC磨粒進行磁力研磨後之試件，其表面所含SiC量有明顯增加，但是其抗腐蝕能力會降低，至於Micro-Vickers微硬度則無明顯改變。
顯示於類別:	[機械工程研究所] 博碩士論文

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