Effect of fluoroalkyl substituents on the reactions of alkylchlorosilanes with mold surfaces for nanoimprint lithography

NCU Institutional Repository > 工學院 > 化學工程與材料工程研究所 > 期刊論文 > Item 987654321/30602

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/30602

題名:	Effect of fluoroalkyl substituents on the reactions of alkylchlorosilanes with mold surfaces for nanoimprint lithography
作者:	Chen,JK;Ko,FH;Hsieh,KF;Chou,CT;Chang,FC
貢獻者:	化學工程與材料工程研究所
關鍵詞:	SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS;ALKYLSILOXANE MONOLAYERS;IMPRINT LITHOGRAPHY;CONTACT ANGLES;SILICON;DEPOSITION;ALKYLTRICHLOROSILANES;TEMPERATURE;POLYMERS;COATINGS
日期:	2004
上傳時間:	2010-07-06 16:23:09 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	We have applied trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane (FPTS) and trichloro(1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl)silane (FOTS) for the preparation of self-assembled film on a silicon mold for use as releasing, antisticking layers for nanoimprint lithography. Fro
關聯:	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
顯示於類別:	[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文

文件中的檔案:

檔案	描述	大小	格式	瀏覽次數
index.html		0Kb	HTML	455	檢視/開啟

在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

社群 sharing