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    題名: Light Output Enhancement of InGaN Light-Emitting Diodes Grown on Masklessly Etched Sapphire Substrates
    作者: Lin,Hung-Cheng;Lin,Ruo-Syuan;Chyi,Jen-Inn;Lee,Chia-Ming
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: EPITAXIAL LATERAL OVERGROWTH;VAPOR-PHASE EPITAXY;NEAR-ULTRAVIOLET;DISLOCATION DENSITY;QUANTUM EFFICIENCY;GAN;POWER;REDUCTION;ELECTRODE
    日期: 2008
    上傳時間: 2010-07-06 18:13:09 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: A maskless wet-etching method is used to prepare patterned sapphire substrates for enhancing the output power of InGaN light-emitting diodes (LEDs). Blue LEDs grown on the patterned sapphire substrates exhibit an output power of 24.9 mW, which is 19.4% hi
    關聯: IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS????
    顯示於類別:[電機工程研究所] 期刊論文

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