Fabrication of micrometer Ni columns by continuous and intermittent microanode guided electroplating

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題名:	Fabrication of micrometer Ni columns by continuous and intermittent microanode guided electroplating
作者:	Lin,JC;Jang,SB;Lee,DL;Chen,CC;Yeh,PC;Chang,TK;Yang,JH
貢獻者:	光機電工程研究所
關鍵詞:	LOCALIZED ELECTROCHEMICAL DEPOSITION;MICROSTRUCTURES;NICKEL
日期:	2005
上傳時間:	2010-07-08 09:43:29 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Micrometer nickel columns were fabricated by a novel process called microanode guided electroplating (MAGE). In the MAGE process, a microanode of platinum (125 mu m in diameter) was controlled to move in either continuous or intermittent mode to guide the
關聯:	JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING
顯示於類別:	[光機電工程研究所 ] 期刊論文

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