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    題名: 鈷化釸、鈷化鍺、鈷化矽鍺與矽鍺半導體接觸時熱穩定性之研究;Thermal Stabilities of Co Silicides, Co Germanides and Co Germanosilicides in Contact with SiGe Semiconductors
    作者: 高振宏
    貢獻者: 化學工程系
    關鍵詞: 矽鍺鈷三元相圖;矽鍺;鈷化矽;鈷化鍺;鈷化矽鍺;金屬化;Si-Ge-Co ternary phase diagram;SiGe;Cobalt silicide;Cobalt germanide;Cobalt germanosilicide;Metallization;材料科技
    日期: 2000-07-01
    上傳時間: 2010-11-03 10:33:49 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 研究領域：8808 ~ 8907
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[化學工程與材料工程學系 ] 研究計畫

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