紫外光及深紫外光濾光片之研製---子計畫四:紫外光及深紫外光薄膜光學特性之研究與濾光片之設計及製作(I); Research of Optical Thin Film in Ranges of UV and DUV and from Design through Manufacture of UV and DUV Filters(I)

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題名:	紫外光及深紫外光濾光片之研製---子計畫四:紫外光及深紫外光薄膜光學特性之研究與濾光片之設計及製作(I);Research of Optical Thin Film in Ranges of UV and DUV and from Design through Manufacture of UV and DUV Filters(I)
作者:	李正中
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	紫外光薄膜;深紫外光薄膜;干涉濾光片;離子助鍍;紫外光退火;應力;非均向性;微觀結構;奈米微影;光電工程
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 16:41:12 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計畫將以我們先前研究紫外光、可見光與近紅外光區鍍膜的經驗為基礎，配合最近文獻的資訊來選取適合的鍍膜材料，以製鍍紫外光與深紫外光的光學薄膜，再與其他子計畫交互研究深入瞭解薄膜的光學特性與物理機制，藉以不同的製鍍條件，改善膜質的特性。接著利用離子輔助技術與紫外光退火進行助鍍的研究，以期達到進一步改良膜質的特性，使得薄膜的折射率穩定、吸收小以及應力獲得改善等效益，以利於接下來紫外光干涉濾光片的設計與製作。待完成紫外光干涉濾光片後，進而將研究推展到深紫外光區，並完成深紫外光濾光片的設計與製作。KrF 與ArF 雷射對於紫外光與深紫外光濾光片損害也是研究探討的重點，以期提高雷射損壞閥值（Laser Damage Threshold），增加使用上的耐久性。本計畫各個階段研究進行中，將借助於子計畫一非均向性的分析，子計畫二薄膜微結構分析與應力變化的量測，以利於釐清薄膜的特性，並結合子計畫三奈米微影的技術，使薄膜與濾光片的光學成效達到最佳化，並創造出次世代的濾光片技術。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究所] 研究計畫

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