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    題名: 低損耗雷射鏡之研製
    作者: 李正中
    貢獻者: 中央大學光電科學研究所
    關鍵詞: 光電工程;離子濺鍍;薄膜;低損耗;雷射鏡;Ion-beam sputtering;Thin film;Low loss;Laser mirror
    日期: 1996-09-01
    上傳時間: 2012-10-01 15:00:02 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 本計劃擬以離子濺鍍法首先做些低損耗光 學薄膜之研究.探討其組織及結構並選出其中 較好之數種膜來組合成多層膜雷射鏡.在離子 濺鍍法中我們會比較單離子束濺鍍及雙離子束 濺鍍的優劣,以確定製膜方式,必要時會輔以鍍 後處理.多層膜雷射鏡的損耗擬以 ring-down time 方式測量,預計研製出小於 100 ppm 以下的多層 膜雷射鏡. ; 研究期間 8408 ~ 8507
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[光電科學研究所] 研究計畫

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