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Item 987654321/6642
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http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6642
題名:
經表面處理氮化鎵之特性研究
;
Investigated the characteristics of the (NH4)2Sx-treated n-type GaN
作者:
林祐仲
;
Yow-Jon Lin
貢獻者:
光電科學研究所
關鍵詞:
表面態
;
歐姆接觸
;
表面處理
;
特徵接觸電阻
;
蕭特基接觸
;
Schottky contact
;
ohmic contact
;
surface state
;
surface treatment
;
specific contact resistance
日期:
2001-06-01
上傳時間:
2009-09-22 10:24:43 (UTC+8)
出版者:
國立中央大學圖書館
摘要:
在本次研究中,利用硫化銨 ((NH4) 2Sx) 溶液進行N型氮化鎵 (GaN) 表面處理,於蒸鍍鈦/鋁 (Ti/Al) 金屬後即形成特徵接觸電阻值5.0×10-5 Ω-cm2之歐姆接觸 (ohmic contact)。然後,再將它置於高溫爐在氮氣環境下,以300oC進行熱處理3分鐘即可獲得低的特徵接觸電阻值3.0×10-6 Ω-cm2 。另外,對於氮化鎵硫化處理效應更以各項實驗來加以驗證與推算,其包括:能夠完全去除氮化鎵表面原生氧化層,並且改善氮化鎵表面特性及提高表面載子濃度,以致於能夠形成非經熱處理之歐姆接觸、於氮化鎵表面形成鎵-硫(Ga-S) 鍵結防止表面再氧化、能夠減少表面態密度及表面複合速度和增加光子激發光光譜 (photoluminescence) 之強度、能獲得較好的蕭特基接觸 (Schottky contact) 特性。
顯示於類別:
[光電科學研究所] 博碩士論文
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