次奈米窄帶濾光片之研製與分析; Research of the fabrication of sub-nanometer narrow band pass filter for DWDM system

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題名:	次奈米窄帶濾光片之研製與分析;Research of the fabrication of sub-nanometer narrow band pass filter for DWDM system
作者:	鄭耀乾;Yao-chien Cheng
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	次奈米;窄帶濾光片;光纖通訊;高密度分波多工器;雙離子束濺鍍;subnanometer;narrow band pass filter
日期:	2001-06-28
上傳時間:	2009-09-22 10:25:07 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	目前DWDM技術已在光纖通訊系統扮演重要角色，窄帶濾光片則是其中不可或缺的元件，但由於其規格要求比一般鍍膜產品嚴格甚多，因此製作上困難度很高。本論文使用Ta2O5 及SiO2 兩種材料，實際由製程選取、建立雙離子束濺鍍系統、尋找適當製程參數到設計與製鍍，逐步完成了次奈米窄帶濾光片之製作與分析。 none
顯示於類別:	[光電科學研究所] 博碩士論文

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