開發複合金屬薄膜蝕刻製程用於A世代元件製程;Development of Plasma Ion Etching Composite Metal Process and Generation a Device Process

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題名:	開發複合金屬薄膜蝕刻製程用於A世代元件製程;Development of Plasma Ion Etching Composite Metal Process and Generation a Device Process
作者:	李雄朱
貢獻者:	國立中央大學機械工程學系
關鍵詞:	A世代元件製程;電漿離子蝕刻先進製程與設備;電化學加工;複合金屬薄膜;Generation A device process;Plasma Reactive Ion Etching;Electrochemical Machining;composite metal films
日期:	2023-03-08
上傳時間:	2023-03-08 15:51:45 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會
摘要:	社會面：自主建置電漿離子蝕刻系統設備，可提昇國內產學界掌握更多關鍵設備核心技術，對整體社會人才的培育有正面的貢獻。 2.經濟面：有效改善業界的技術瓶頸與量產穩定性的疑慮，提升整體製造業的經濟價值。 3.學術發展面：藉由專業學術期刊的閱讀與解析，透過學術研究平台創造學界與業界的新知識，並嶄露出更高層次的技術貢獻。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[機械工程學系] 研究計畫

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