2x-thru校正法之關鍵技術研發;Development of Key Technologies in 2x-Thru Calibration

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題名:	2x-thru校正法之關鍵技術研發;Development of Key Technologies in 2x-Thru Calibration
作者:	周求致
貢獻者:	國立中央大學電機工程學系
關鍵詞:	散射參數量測;校正技術;2x-thru校正法;去嵌入;夾具誤差;高頻外插;因果律修正;時域反射儀;S parameter measurement;calibration technique;2x-thru calibration;de-embedding;fixture mismatch;high-frequency extrapolation;causality enforcement;time-domain reflectometry
日期:	2024-09-27
上傳時間:	2024-09-30 17:22:18 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會(本會)
摘要:	2x-thru校正法已廣為USB、PCIE等高速規範所採用，然而時下2x-thru校正存在三個問題：(1)校正結果往往在接近最高頻處有不合理的抖動現象；(2)考量夾具誤差效應的演算法在文獻中鮮少揭露；(3)校正結果時有違反因果律的情形。本計畫針對上述三個問題進行探討，對問題一我們提出詳細的解釋與解決之法，對問題二和三，我們提出考量夾具誤差情況下的2x-thru校正演算法，同時搭配新提出的因果律修正法，確保校正結果符合因果律。計畫將採用數個模擬與量測的電路進行驗證，並針對IEEE 370規範中的相關要求進行檢討。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[電機工程學系] 研究計畫

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