博碩士論文 995201012 詳細資訊




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姓名 陳力維(Li-Wei Chen)  查詢紙本館藏   畢業系所 電機工程學系
論文名稱 二維雙閘極金氧半場效電晶體的探討與模擬
(Analysis and Simulation of Two-DimensionalDouble-Gate MOSFET)
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摘要(中) 在本篇論文中,我們將探討雙閘極金氧半場效電晶體的結構,而這結構有以下優
點:有效抑制短通道效應、低功率消耗、良好的閘極通道控制能力、較好的電流
驅動力、較低的通道漏電流以及接近理想的次臨限擺幅等。接著我們利用二維元
件模擬器探討雙閘極金氧半場效電晶體的元件特性,分析雙閘極與單閘極元件的
Id-Vg 曲線、單閘極與雙閘極在不同通道長度下的次臨限擺幅差異以及雙閘極元
件在不同體矽厚度下的漏電流。最後,利用臨限電壓公式驗證元件的開發是否正
確,再來探討改變各種參數對於元件的影響。
摘要(英) In this thesis, we will investigate the structure of the double-gate MOSFETs. This structure has the following advantages: better short channel effect, low power consumption, good gate-channel control capability, better current driving force, the lower channel leakage current and near ideal sub-threshold swing, etc. Then we design a 2-D device simulator to investigate the device characteristics of the double-gate MOSFET. We analyze the Id-Vg curves of the double gate and single-gate components, sub-threshold swing difference in the different channel length, and double-gate leakage current in the different thickness of the bulk silicon. Finally, we use the threshold voltage formula to verify the validity of the 2-D device simulator,and then analyze the impact of the various design parameters.
關鍵字(中) ★ 雙閘極
★ 短通道效應
關鍵字(英) ★ double Gate
★ short channel effects
論文目次 摘要I
AbstractII
目錄III
圖目錄IV
表目錄VI
第一章 簡介1
第二章 雙閘極MOSFET介紹與討論3
2-1 做雙閘極MOSFET的原因3
2-2 雙閘極MOSFET的結構8
第三章 雙閘極MOSFET二維模擬器的開發12
3-1 二維等效模擬電路12
3-2 二維的雙閘極MOSFET的基本特性模擬15
3-3 臨限電壓公式與模擬驗證24
第四章 各項參數對雙閘極MOSFET的影響27
4-1 次臨限特性比較28
4-2 改變參數對電流電壓的影響31
第五章結論39
參考文獻41
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指導教授 蔡曜聰(Yao-Tsung Tsai) 審核日期 2012-7-9
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