DC 欄位 值 語言 DC.contributor 光電科學與工程學系 zh_TW DC.creator 李世忠 zh_TW DC.creator Sh-Zhong Li en_US dc.date.accessioned 2001-8-28T07:39:07Z dc.date.available 2001-8-28T07:39:07Z dc.date.issued 2001 dc.identifier.uri http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN= 80246002 dc.contributor.department 光電科學與工程學系 zh_TW DC.description 國立中央大學 zh_TW DC.description National Central University en_US dc.description.abstract 我們另外設計製作了半導體雷射端面鍍膜用的小型鍍膜機, 將 一氧化矽鍍膜材料, 裝在特殊的蒸發器 ( boat ) 中, 通以大約250A的電流 (一氧化矽溫度大約1200℃ 左右 ), 此時形成穩定的蒸氣流。 將除去外殼的半導體雷射, 置於鍍膜機中, 大約在幾分鐘之後, 即完成鍍膜。 膜厚控制, 我們採用測量雷射後端面 ( back beam ) 輸出光功率的大小。 當功率達到最小值, 關上檔板 ( shutter), 即完成鍍膜, 便可得到不錯的鍍膜效果。 將端面鍍妥的雷射製成以 Littrow 及 Littman 兩種外腔式結構, 分別採用不同焦距的透鏡, 以及反射率不同的鍍膜, 對其雷射臨界電流, 雷射輸出功率, 雷射模態 ( mode structure ), 雷射頻寬等輸出特性加以比較討論。 zh_TW DC.subject 半導體雷射頻率調整 zh_TW DC.subject 外腔式半導體雷射 zh_TW DC.subject 減反射膜 zh_TW DC.title 半導體雷射控制頻率 zh_TW dc.language.iso zh-TW zh-TW DC.type 博碩士論文 zh_TW DC.type thesis en_US DC.publisher National Central University en_US