DC 欄位 值 語言 DC.contributor 物理學系 zh_TW DC.creator 林自明 zh_TW DC.creator Tzu-Ming Lin en_US dc.date.accessioned 2000-6-21T07:39:07Z dc.date.available 2000-6-21T07:39:07Z dc.date.issued 2000 dc.identifier.uri http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=86222021 dc.contributor.department 物理學系 zh_TW DC.description 國立中央大學 zh_TW DC.description National Central University en_US dc.description.abstract 實驗過程中,所掃描記錄的波長是300nm-400nm之間的光訊號,因為在這個波段範圍內可以明顯的觀察到鋁原子的光譜線,從實驗的結果中,我們可在各種離子束分別與鋁表面碰撞的光譜圖中,發現中性鋁原子的四條原子譜線為308.2nm(32D3/2→32P1/2 ),309.2nm(32D3/2,5/2→32P3/2),394.4nm(42S1/2→32P1/2),396.2nm(42S1/2→32P3/2),而本實驗主要觀察309.2nm與396.2nm兩條原子譜線,並根據這些從表面濺射粒子所發出的光輻射訊號來研究離子與金屬表面碰撞過程的一個重要物理訊息. 實驗中,在靶室腔體中控制不同的氧流量,提供不同能量的離子射束加速電壓,觀察鋁表面濺射鋁原子光輻射訊號強度,計算特定波(309.2nm,396.2nm)氧的濺射係數So與氧的附著率Cs,藉以瞭解光子產率與金屬表面附著不同程度的氧氣情況下;所表現出的物理現象. zh_TW DC.subject 濺射 zh_TW DC.subject 光輻射 zh_TW DC.subject 濺射係數 zh_TW DC.subject 附著率 zh_TW DC.subject sputtering en_US DC.subject optical radiation en_US DC.subject sputtering coefficient en_US DC.subject sticking propability en_US DC.title 離子碰撞氧氣覆著Al(111)金屬表面 zh_TW dc.language.iso zh-TW zh-TW DC.title Oxygen Sticking Coefficient and Sputtering Yield by Measuring Light Emission from Sputtered Particles during Ion Bombardment an Al (111) Surface en_US DC.type 博碩士論文 zh_TW DC.type thesis en_US DC.publisher National Central University en_US