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語言 |
| DC.contributor | 物理學系 | zh_TW |
| DC.creator | 嚴子明 | zh_TW |
| DC.creator | Zhe-Ming Yian | en_US |
| dc.date.accessioned | 2000-7-10T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2000-7-10T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2000 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=86222025 | |
| dc.contributor.department | 物理學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 實驗過程中，所掃瞄記錄的波長是3000 ∼4000 之間的光訊號，因為在這個波段範圍內可以明顯的觀察到銅原子的光譜線，從實驗的結果，我們可以在各種離子束分別與銅靶表面碰撞的光譜圖中發現兩條最明顯的的中性銅原子譜線324.7 nm（4 S →4 P ）、327.4 nm（4 S →4 P ），而本實驗就利用表面濺射粒子所發出光輻射的這兩條原子譜線來研究離子與金屬表面碰撞過程的一個重要物理訊息。
實驗中，在靶室腔體中控制不同氧流量，提供不同能量、種類離子射束之加速電壓，觀察銅表面濺射銅原子光輻射訊號強度，計算特定波長氧的濺射係數S 與氧的附著率C ，藉以瞭解光子產率與金屬表面附著不同程度的氧氣情況下，所表現出來的物理現象。 | zh_TW |
| DC.subject | 濺射 | zh_TW |
| DC.subject | 降激過程 | zh_TW |
| DC.subject | 濺射係數 | zh_TW |
| DC.subject | 附著率 | zh_TW |
| DC.subject | sputtering | en_US |
| DC.subject | de-excitation | en_US |
| DC.subject | sputtering coefficient | en_US |
| DC.subject | sticking probability | en_US |
| DC.title | 離子碰撞氧氣覆著Cu金屬表面氧的附著率與濺射率之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |