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語言 |
| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 劉旻忠 | zh_TW |
| DC.creator | Ming-Chou Liu | en_US |
| dc.date.accessioned | 2000-7-6T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2000-7-6T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2000 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=87226015 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 本論文是使用多靶式磁控射頻濺鍍系統，濺鍍光學薄膜，著眼於Al2O3和SiO2兩種材料的濺鍍，主要探討不同真空度下波長在300nm∼400nm紫外光區其穿透率、折射率和消光係數等光學性質，另外對力學特性如薄膜應力、表面微觀結構如表面粗糙度等，以及薄膜的結晶性作研究和討論，並利用此兩種材料作光學薄膜的疊加設計與應用。希望能在紫外光區波長300nm~400nm 中製造出好的氧化薄膜，以便提供衛星遙測於紫外光區的光學技術應用。 | zh_TW |
| DC.subject | 射頻濺鍍 | zh_TW |
| DC.subject | 紫外光氧化薄膜 | zh_TW |
| DC.subject | 氧化鋁 | zh_TW |
| DC.subject | 二氧化矽 | zh_TW |
| DC.subject | Rf-sputtering | en_US |
| DC.subject | UV-coating | en_US |
| DC.subject | Al2o3 | en_US |
| DC.subject | Sio2 | en_US |
| DC.title | 射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |