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語言 |
| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 莊凱評 | zh_TW |
| DC.creator | Kie-Pin Chuang | en_US |
| dc.date.accessioned | 2000-6-22T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2000-6-22T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2000 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=87226028 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 要如何控制膜厚均勻分布，就必須先對基板相對蒸發源的幾何位置擺設所造成的影響有所了解，進而探討蒸發源特性及成膜過程之物理特性。以作為設計改善膜厚均勻性時之參考，而達成改善厚度分布均勻性之目標。
然而，在整個研究過程中，對整個鍍膜系統之架構設計，對厚度分布均勻性及薄膜品質，造成何種程度的影響有所了解。同時，亦建立了研究時應有的基本態度與方法，以作為往後解決問題能力之基礎。 | zh_TW |
| DC.subject | 薄膜 | zh_TW |
| DC.subject | 均勻性 | zh_TW |
| DC.title | 光學薄膜厚度均勻性之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |