博碩士論文 87226034 完整後設資料紀錄

DC 欄位 語言
DC.contributor光電科學與工程學系zh_TW
DC.creator邱欣慶zh_TW
DC.creatorXing-Qing Qiuen_US
dc.date.accessioned2000-6-20T07:39:07Z
dc.date.available2000-6-20T07:39:07Z
dc.date.issued2000
dc.identifier.urihttp://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=87226034
dc.contributor.department光電科學與工程學系zh_TW
DC.description國立中央大學zh_TW
DC.descriptionNational Central Universityen_US
dc.description.abstract本實驗是以二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積二氧化矽。以輸出不同波長及不同功率的二氧化碳雷射斜向照射在矽基板上,利用電漿激發式化學氣相沉積非晶形二氧化矽薄膜。比較以同波長不同功率與同功率不同波長的二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積及以電漿激發式化學氣相沉積所沉積出薄膜的特性。藉由相關的量測分析,以了解以不同波長同功率與不同功率同波長的二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積法及電漿激發式化學氣相沉積法所沉積出來的薄膜品質。zh_TW
DC.subject二氧化矽zh_TW
DC.title二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沈積非晶形二氧化矽薄膜zh_TW
dc.language.isozh-TWzh-TW
DC.type博碩士論文zh_TW
DC.typethesisen_US
DC.publisherNational Central Universityen_US

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