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| DC.contributor | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.creator | 黃文雄 | zh_TW |
| DC.creator | Wen-Xiong Haung | en_US |
| dc.date.accessioned | 2001-6-20T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2001-6-20T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2001 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN= 88226010 | |
| dc.contributor.department | 光電科學與工程學系 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 定性，過大的薄膜應力對薄膜的附著性有不好的影響，過大的張應力
使得薄膜破裂：反之，使得薄膜起皺。所以有效的控制製程後薄膜的
剩餘應力是非常重要的。
本文旨在製鍍良好光學特性的理想薄膜，觀察製程參數對薄膜應
力的影響，期望能從中尋找應力較小的理想薄膜。再比較不同製程方
法製鍍的薄膜，薄膜應力的大小。 | zh_TW |
| DC.title | 製程參數對薄膜應力影響之研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |