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語言 |
| DC.contributor | 機械工程研究所 | zh_TW |
| DC.creator | 夏夢苓 | zh_TW |
| DC.creator | Meng-Ling Hsia | en_US |
| dc.date.accessioned | 2001-7-19T07:39:07Z | |
| dc.date.available | 2001-7-19T07:39:07Z | |
| dc.date.issued | 2001 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=88323050 | |
| dc.contributor.department | 機械工程研究所 | zh_TW |
| DC.description | 國立中央大學 | zh_TW |
| DC.description | National Central University | en_US |
| dc.description.abstract | 本研究利用流場可視化實驗裝置及灰階度方法，觀測在化學機械研磨中，研磨液在研磨墊上之暫態變化，進而探討晶圓施壓大小對研磨速率與均勻性之影響。實驗結果發現對於8吋及12吋晶圓，壓力加大與提高研磨墊轉速，平均灰階度皆會隨之增高。此外，使用大尺寸晶圓已成為現今趨勢，目前晶圓尺寸已達12吋，相當接近研磨墊之半徑，若研磨墊尺寸隨之加大，則在轉動過程中易產生晃動、不穩定的現象，因此晶圓邊緣跨過研磨中心的研磨方式，亦是本文另一項研究的重點。首先，藉著計算研磨過程中晶圓之平均相對速度，來輔助說明晶圓位置與研磨率及均勻性的關係。研究結果發現，在固定晶圓與研磨墊轉速下，晶圓邊緣距研磨墊中心愈遠，則平均相對速度及平均灰階度都愈高，且發現在晶圓跨中心前，當晶圓與研磨墊轉速比等於1時，晶圓上各點的相對速度皆相同；而晶圓跨過研磨墊中心後，在跨過中心的區域裡，相對速度並不一致。因此在跨中心後所得之均勻性較差。而改善跨中心後研磨率的方法，可適當地調整晶圓及研磨墊轉速，使得晶圓上之平均相對速度一樣，則即使晶圓跨過研磨墊中心，亦可得到差不多的灰階度 (研磨率)。但均勻性變差的情形，還需要更多的研究。 | zh_TW |
| DC.subject | 化學機械研磨 | zh_TW |
| DC.subject | 灰階度 | zh_TW |
| DC.subject | 相對速度 | zh_TW |
| DC.subject | 移除率 | zh_TW |
| DC.subject | 非均勻性 | zh_TW |
| DC.title | 化學機械研磨流場模擬實驗研究 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh-TW | zh-TW |
| DC.type | 博碩士論文 | zh_TW |
| DC.type | thesis | en_US |
| DC.publisher | National Central University | en_US |