博碩士論文 89226006 完整後設資料紀錄

DC 欄位 語言
DC.contributor光電科學與工程學系zh_TW
DC.creator陳家豪zh_TW
DC.creatorChia-Hao Chenen_US
dc.date.accessioned2002-7-12T07:39:07Z
dc.date.available2002-7-12T07:39:07Z
dc.date.issued2002
dc.identifier.urihttp://ir.lib.ncu.edu.tw:88/thesis/view_etd.asp?URN=89226006
dc.contributor.department光電科學與工程學系zh_TW
DC.description國立中央大學zh_TW
DC.descriptionNational Central Universityen_US
dc.description.abstract本實驗採用大面積化微波電漿輔助化學氣相沉積系統,研究沉積鑽石薄膜的最佳參數。本研究分為兩個階段,第一階段為改良天線陣列區Arc現象及測試系統的穩定度;第二階段,待系統穩定後,藉由改變系統總壓力及甲烷(CH4)、氫氣(H2)流量等參數,來研究對薄膜品質的影響。另外我們以拉曼散射光譜儀、X-ray繞射儀、掃描式電子顯微鏡及傅立葉紅外光譜儀來鑑定薄膜的特性。在氫氣(H2)流量300 sccm、甲烷(CH4)流量50 sccm、抽氣閥門控制開關在5%的位置、微波功率700W、鍍膜48小時,結果在電子顯微鏡下的表面顆粒結晶較多,經傅立葉紅外光譜儀分析沒有C-H鍵結,X-ray繞射儀沒有明顯的特性峰,薄膜表面結晶顆粒大約在10 nm ~ 20 nm之間。zh_TW
DC.subject微波電漿zh_TW
DC.subject薄膜zh_TW
DC.subject大面積zh_TW
DC.subjectLarge-areaen_US
DC.subjectmicrowave plasmaen_US
DC.subjectthin filmen_US
DC.title大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究zh_TW
dc.language.isozh-TWzh-TW
DC.type博碩士論文zh_TW
DC.typethesisen_US
DC.publisherNational Central Universityen_US

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