博碩士論文 80246002 詳細資訊




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姓名 李世忠( Sh-Zhong Li)  查詢紙本館藏   畢業系所 光電科學與工程學系
論文名稱 半導體雷射控制頻率
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摘要(中) 我們另外設計製作了半導體雷射端面鍍膜用的小型鍍膜機, 將 一氧化矽鍍膜材料, 裝在特殊的蒸發器 ( boat ) 中, 通以大約250A的電流 (一氧化矽溫度大約1200℃ 左右 ), 此時形成穩定的蒸氣流。 將除去外殼的半導體雷射, 置於鍍膜機中, 大約在幾分鐘之後, 即完成鍍膜。 膜厚控制, 我們採用測量雷射後端面 ( back beam ) 輸出光功率的大小。 當功率達到最小值, 關上檔板 ( shutter), 即完成鍍膜, 便可得到不錯的鍍膜效果。
將端面鍍妥的雷射製成以 Littrow 及 Littman 兩種外腔式結構, 分別採用不同焦距的透鏡, 以及反射率不同的鍍膜, 對其雷射臨界電流, 雷射輸出功率, 雷射模態 ( mode structure ), 雷射頻寬等輸出特性加以比較討論。
關鍵字(中) ★ 半導體雷射頻率調整
★ 外腔式半導體雷射
★ 減反射膜
關鍵字(英)
論文目次 封面
摘要
誌謝
目錄
圖目錄
表目錄
一.前言
二.半導體雷射基本特
三.半導體雷射頻率的線性調整及實驗結果
四.半導體雷射端面鍍膜用的小型鍍膜機
五.外腔武半導體雷射
六.結論"
參考資料
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指導教授 李正中(Cheng-Chung Lee) 審核日期 2001-8-28
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