離子碰撞氧氣覆著Al(111)金屬表面

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林自明(Tzu-Ming Lin) 查詢紙本館藏

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物理學系

論文名稱

離子碰撞氧氣覆著Al(111)金屬表面
(Oxygen Sticking Coefficient and Sputtering Yield by Measuring Light Emission from Sputtered Particles during Ion Bombardment an Al (111) Surface)

相關論文

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摘要(中)

實驗過程中,所掃描記錄的波長是300nm-400nm之間的光訊號,因為在這個波段範圍內可以明顯的觀察到鋁原子的光譜線,從實驗的結果中,我們可在各種離子束分別與鋁表面碰撞的光譜圖中,發現中性鋁原子的四條原子譜線為308.2nm(32D3/2→32P1/2 ),309.2nm(32D3/2,5/2→32P3/2),394.4nm(42S1/2→32P1/2),396.2nm(42S1/2→32P3/2),而本實驗主要觀察309.2nm與396.2nm兩條原子譜線,並根據這些從表面濺射粒子所發出的光輻射訊號來研究離子與金屬表面碰撞過程的一個重要物理訊息.
實驗中,在靶室腔體中控制不同的氧流量,提供不同能量的離子射束加速電壓,觀察鋁表面濺射鋁原子光輻射訊號強度,計算特定波(309.2nm,396.2nm)氧的濺射係數So與氧的附著率Cs,藉以瞭解光子產率與金屬表面附著不同程度的氧氣情況下;所表現出的物理現象.

關鍵字(中)

★ 濺射
★ 光輻射
★ 濺射係數
★ 附著率

關鍵字(英)

★ sputtering
★ optical radiation
★ sputtering coefficient
★ sticking propability

論文目次

第一章緒論 1
1.1 簡介 1
1.2 各章摘要 2
第二章基本原理 4
2.1 濺射粒子的產生形式 4
2.2 濺射粒子產生光輻射的成因 6
2.3 影響光子產率的因子 6
2.4 計算氧的附著率Cs與濺射係數So的方法 8
第三章實驗設備與實驗步驟 15
3.1 實驗設備 15
3.1-1 離子源系統 ( Ion Source System 15
3.1-2 聚焦系統 ( Focusing System ) 16
3.1-3 真空系統 ( Vacuum System ) 16
3.1-4 電磁鐵 ( Analyzing Electromagnet ) 17
3.1-5 光源偵測系統 ( Optical Detection System ) 17
3.1-6 資料收集處理系統 ( Data Acquistion System 18
3.2 實驗步驟 20
3.2-1 準備工作階段 20
3.2-2 正式實驗階段 22
第四章實驗結果與討論 27
4. 1-1譜線分析 27
4.1-2氧氣壓力對光子產率的影響 29
4.1-3 入射離子的能量對金屬表面覆蓋氧氣的影響 31
第五章結論 34
參考資料 54

參考文獻

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指導教授

李敬萱(C.S.Lee)

審核日期

2000-6-21

推文