射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究

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姓名

劉旻忠(Ming-Chou Liu) 查詢紙本館藏

畢業系所

光電科學與工程學系

論文名稱

射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究

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摘要(中)

本論文是使用多靶式磁控射頻濺鍍系統，濺鍍光學薄膜，著眼於Al2O3和SiO2兩種材料的濺鍍，主要探討不同真空度下波長在300nm∼400nm紫外光區其穿透率、折射率和消光係數等光學性質，另外對力學特性如薄膜應力、表面微觀結構如表面粗糙度等，以及薄膜的結晶性作研究和討論，並利用此兩種材料作光學薄膜的疊加設計與應用。希望能在紫外光區波長300nm~400nm 中製造出好的氧化薄膜，以便提供衛星遙測於紫外光區的光學技術應用。

關鍵字(中)

★ 射頻濺鍍
★ 紫外光氧化薄膜
★ 氧化鋁
★ 二氧化矽

關鍵字(英)

★ Rf-sputtering
★ UV-coating
★ Al2o3
★ Sio2

論文目次

目錄
中文摘要 Ⅰ
誌謝辭Ⅱ
目錄Ⅲ
圖目錄Ⅴ
表目錄Ⅷ
符號說明Ⅸ
第一章緒論
1-1前言 1
1-2 Al2O3和SiO2材料特性4
第二章原理
2-1電漿原理5
2-2濺鍍原理
2-2-1直流濺鍍 8
2-2-2射頻濺鍍8
2-2-3磁空濺鍍12
2-3平均自由路徑14
2-4電場的效應15
2-5薄膜應力16
2-5-1 應力的種類 16
第三章量測儀器
3-1 量測儀器19
3-2 量測儀器的原理和架構
3-2-1橢圓偏光儀的原理和架構20
3-2-1-1橢圓偏光儀原理 20
3-2-1-2橢圓偏光儀的架構24
3-2-1-3橢圓偏光儀的示意圖24
3-2-2干涉相移式薄膜應力量測儀原理和架構25
3-2-2-1薄膜應力量測技術25
3-2-2-2干涉相移式薄膜應力量測儀原理25
3-2-2-3干涉相移式薄膜應力量測儀架構26
3-2-3原子力顯微鏡的原理和架構29
3-2-3-1原子力顯微鏡原理29
3-2-3-2原子力顯微鏡架構31
第四章實驗目的架構與程序
4-1 實驗目的32
4-2 濺鍍系統的架構32
4-3 控制參數34
4-4 基板的準備34
第五章實驗結果與討論
5-1 Al2O3薄膜實驗結果與討論35
5-1-1 濺鍍速率 35
5-1-2 折射率和消光係數36
5-1-3 穿透光譜38
5-1-4 薄膜應力的量測41
5-1-5 表面粗糙度42
5-1-6 結晶性的量測46
5-1-7 實驗討論47
5-2 SiO2薄膜的實驗結果與討論49
5-2-1 濺鍍速率49
5-2-2 折射率和消光係數50
5-2-3 穿透光譜52
5-2-4 表面粗糙度53
5-2-5 結晶性的量測58
5-2-7 實驗討論59
5-3 抗反射膜之疊加製鍍
5-3-1 四層1/4波膜堆疊加之抗反射膜61
5-3-2 四層1/4波膜堆兩面之抗反射膜62
5-3-3 Al膜上再疊加十層1/4波膜堆之高反射鏡63
5-3-4 實驗討論 64
第六章薄膜的應用討論
6-1 四層膜之抗反射65
6-2 高反射鏡68
6-2-1使用四分之一波膜堆68
6-2-2金屬膜加介電質膜70
第七章結論72
參考文獻 73

參考文獻

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24.科儀新知第十八卷三期，方維倫，為機械製造結構與薄膜殘餘應力的量測之應用。

指導教授

李正中(Cheng-Chung Lee)

審核日期

2000-7-6

推文