參考文獻 |
[APP] A. Appelbaum, R. V. Knoell and S. P. Murarka, J.
Appl. Phys., 57, p.1880, 1985.
[COL] E. G. Colgan, J. P. Gambino and Q. Z. Hong, Mater.
Sci. Eng., R16, p.43, 1996.
[COM] C. M. Comrie and R. T. Newman, J. Appl. Phys., 79,
p.153, 1996.
[DAS] M. L. A. Dass, D. B. Fraser and C.-S. Wei, Appl.
Phys. Lett., 58, p.1308, 1991.
[GRI] M. G. Grimaldi, F. La Via and V. Raineri, Europhys.
Lett., 40, p.581, 1997.
[HAH] T. Hahn, International Tables for Crystallography,
3rd ed., KAP, Boston, 1992.
[HON] F. Hong , G. A. Rozgonyi and B. K. Patnaik, Appl.
Phys. Lett., 64, p.2241, 1994.
[HSI] S. L. Hsia, T. Y. Tan, P. Smith and G. E. McGuire,
J. Appl. Phys., 70, p.7579, 1991.
[ISH] K. Ishida, T. Nishizawa and M. E. Schlesinger,
Journal of Phase Equilibria, 12, , p.578, 1991.
[JEO] H. Jeon, G. Yoon and R. J. Nemanich, Thin Solid
Films, 299, p.178, 1997.
[KIM] G. B. Kim, H. K. Bail and S. M. Lee, Appl. Phys.
Lett., 69, p.3498, 1996.
[KIT] J. A. Kittl, W. T. Shiau, Q. Z. Hong and D. Miles,
Microelectronic Engineering, 50, p.87, 2000.
[LIU] P. Liu, B. Z. Li, Z. Sun, Z. G. Gu, W. N. Hung, Z.
Y. Zhou, R. S. Ni, C. L. Lin, S. C. Zou, F. Hong
and G. A. Rozgonyi, J. Appl. Phys., 74, p.1700,
1993.
[LUO] J. S. Luo, W. T. Lin, C. Y. Chang, W. C Tsai and S.
J. Wang, Materials Chemistry and Physics, 140,
p.144, 1996.
[MA1] Z. Ma and L. H. Allen, Phys. Rev. B, 49, p.13501,
1994.
[MA2] Z. Ma, L. H. Allen and D. D. Allman, J. Appl.
Phys., 77, p.4384, 1995.
[MAE] K. Maex, Mater. Sci. Eng., R11, p.53, 1993.
[MAN] R. W. Mann and L. A. Clevenger, J. Electrochem.
Soc, 141 p.1347, 1994.
[MAR] V. Ya. Markiv, E. I. Gladyshevskiy and T. I.
FedorukR, Russian Metallurgy, 3, p.118, 1966.
[MEY] B. S. Meyerson, Sci. American, 270, no. 3, p.62,
1994.
[MUR1] J. L. Murray, Bulletin of Alloy Phase Diagrams, 3,
no.1, p.74, 1982.
[MUR2] J. L. Murray, Bulletin of Alloy Phase Diagrams,
p.289, 1987.
[OGA] S. Ogawa, M. L. A. Dass, J. A. Fair, T. Kouzaki and
D. B. Fraser, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 312,
p.193, 1993.
[OTT1] G. Ottaviani, K. N. Tu, P. Psaras and C. Nobili,
J. Appl. Phys., 62, p.2290, 1987.
[OTT2] G. Ottaviani, F. Nava, G. Queirolo, G. Iannuzzi,
G. De Santi and K. N. Tu Low, Thin Solid Films,
146, p.201, 1987.
[ROY] R. A. Roy, L. A. Clevenger, C. Cabral Jr., K. L.
Sanger, S. Brauer, J. Jordan-Sweet, J. Bucchignano,
G. B. Stephenson, G. Morales and K. F. Ludwig Jr.,
Appl. Phys. Lett., 66, p.1732, 1995.
[SMI] A. D. Smigelkas and E. O. Kirkendall, Trans. AIME,
171, p.130, 1947.
[THE] N. D. Theodore, J. Appl. Phys., 75(8), p.3882, 1994.
[VAN] P. J. Van, G. F. Bastin, F. J. Van and G. D. Rieck,
Z. Metallkd., 67(3), p.152, 1976.
[VIL] P. Villars and L. D. Calvert, Pearson's Handbook of
Crystallographic Data for Intermetallic Phases, ASM
International, Materials Park, OH, 1991.
[WAN] Z. Wang, D. B. Aldrich, P. Goeller, R. J. Nemanich
and D. E. Sayers, Mater. Res. Soc. Proc., 402,
p.387, 1996.
[WEI] C.-S. Wei, D. B. Fraser, M. L. A. Dass and T. Brat,
in: Proc. VMIC 1990, p.233.
[ZAL] S. Zalkind, J. Pellag, L. Zevin and B. M. Ditchek,
Thin Solid Films, 249, p.187, 1994.
[ZEN] C. Zener, J. Appl. Phys., 22, p.372, 1951. |