博碩士論文 88226010 詳細資訊




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姓名 黃文雄( Wen-Xiong Haung)  查詢紙本館藏   畢業系所 光電科學與工程學系
論文名稱 製程參數對薄膜應力影響之研究
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摘要(中) 定性,過大的薄膜應力對薄膜的附著性有不好的影響,過大的張應力
使得薄膜破裂:反之,使得薄膜起皺。所以有效的控制製程後薄膜的
剩餘應力是非常重要的。
本文旨在製鍍良好光學特性的理想薄膜,觀察製程參數對薄膜應
力的影響,期望能從中尋找應力較小的理想薄膜。再比較不同製程方
法製鍍的薄膜,薄膜應力的大小。
論文目次 第一章 緒論 …………………………………………………………1
第二章 基本理論 ……………………………………………………3
2.1 薄膜應力 ………………………………………………….…3
2.1.1 薄膜應力分析 …………………………………….….3
2.1.2 內應力成因 …………………………………….…….5
2.1.3 薄膜應力計算公式 ……………….………………….9
2.1.4 薄膜製程對氧化膜應力的影響…………..…….………9
2.2 應力量測方法 ………………………………………………11
2.2.1 懸臂樑法 ……………………………………….…….11
2.2.2 牛頓環法 ……………………………………….……...12
2.2.3 X 光繞射法 ....………………………………………13
2.2.4 干涉相位式應力量法 ……………………………..….14
第三章 儀器及量測工具 ……………………………………………19
3.1 濺鍍系統 …………………………………………………….19
3.2 蒸鍍系統……………………………………………………….20
3.3 量測儀器……………………………………………………….22
3.3.1 原子力顯微鏡 ………………………………………….22
3.3.2 X 光繞射儀 ...………………….….…………………….23
3.3.3 光譜儀之量測 ………………………………………….24
3.3.4 應力量測系統 ………………………………………….25
第四章 實驗結果與分析討論 ………………………………………26
4.1 Ion beam sputtering system 製程 …..………………………..26
4.1.1 製鍍氧化鉭薄膜的參數與光學常數及應力的關係 ...…26
4.1.2製鍍氧化矽薄膜的參數與光學常數及應力的關係 ……39
4.2 電子槍蒸鍍製程 .….………..…………………………….....42
4.3 離子助鍍製程 ……………………………………………….42
4.4 不同製程應力比較 ………………………………………….43
第五章 結論 …………………………………………………………45
參考文獻 ……………………………………………………………..47
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指導教授 李正中(Cheng-Chung Lee) 審核日期 2001-6-20
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