博碩士論文 89426021 詳細資訊


姓名 施義韶(YI-SHAO SHIH)  查詢紙本館藏   畢業系所 工業管理研究所
論文名稱 不同製程模式下比例積分回饋控制器之研究
檔案 [Endnote RIS 格式]    [Bibtex 格式]    [檢視]  [下載]
  1. 本電子論文使用權限為同意立即開放。
  2. 已達開放權限電子全文僅授權使用者為學術研究之目的,進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。
  3. 請遵守中華民國著作權法之相關規定,切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送,以免觸法。

摘要(中) 論文提要內容:
對於改善產品品質而言,製程管制一直為工業界所採用,而一般所用之製程管制的手法,不外乎統計製程管制(SPC)和工程製程管制(EPC)兩種,其中統計製程管制最常用者為管制圖之運用,用來監控製程是否有異常之現象發生,並且找出原因加以消除;而工程製程管制則利用對輸入變數適當之調整來控制製程產出使製程產出趨於穩定性,綜觀以上兩種製程,雖然分別運用在不同的製程形態上,然而隨著產業的脈動,科技的進步,產品已具多元化,產品製程已經不再僅侷限於一種製程上,因此在提升線上製程管制的能力上,已出現兩種製程整合的概念。
Ingolfsson和Sachs(1993)將統計製程管制之技術與回饋系統之技術相結合而發展出R2R控制系統,對於藉由調整製程的輸入變數,來管制製程產出的穩定性而言,其所使用之回饋控制方法為指數加權移動平均,所以我們針對在R2R回饋控制系統中之回饋控制器加以探討,我們選擇比例積分控制器做為系統之回饋控制器,探討比例積分控制器對製程穩定性的效能,並且各種不同干擾型態之製程下以比例積分控制器做為製程之輸入變數,對於其參數的選取問題進一步作探討。
關鍵字(中) ★ 比例積分回饋控制器
★ 製程管制
關鍵字(英)
論文目次 論文目錄:
第一章 緒論 1
1.1 研究動機 1
1.2 研究目的 2
1.3 研究範圍與假設 3
1.4 問題描述與本論文之架構 3
1.5 各章節概要 5
第二章 文獻探討 6
2.1統計製程管制和工程製程管制之相關文獻探討 6
2.1.1統計製程管制(Statistical Process Control) 6
2.1.2工程製程管制(Engineering Process Control) 8
2.1.3整合統計製程管制和工程製程管制關文獻 9
2.2 相關性資料對製程管制的影響之文獻探討 11
2.2.1相關性資料對傳統統計管制圖的影響 11
2.2.2相關性資料對工程製程的影響 12
2.3回饋控制法之相關文獻 13
2.3.1 回饋控制的概念 13
2.3.2 回饋控制器 14
2.3.3回饋控制器演算方法 ..16
2.4回饋控制系統之相關文獻 18
2.4.1 R2R回饋控制系統 18
2.4.2 RbR回饋控制系統中指數加權移動平均回饋控制器之運用 .21
第三章 建構模式 25
3.1概述 25
3.2建構製程模式 27
模型1:假設干擾項為具一固定趨勢現象 27
模型2:干擾項為具隨機偏移現象 27
模型3:干擾項為一IMA(1,1)時間序列模式 27
模型4:假設干擾項為一不可轉換IMA(1,1)時間序列模式 28
第四章 模式驗證 29
模型1:干擾項為具一固定趨勢現象 29
模型2:干擾項為具隨機偏移現象 33
模型3:干擾項為一IMA(1,1)時間序列模式 36
模型4:干擾項為一不可轉換IMA(1,1)時間序列模式 40
第五章 結論與未來展望 44
5.1 研究結論 44
5.2 未來展望 44
附錄 46
附錄一 46
附錄二 47
參考文獻 48
圖目錄:
圖1.1論文架構流程圖 4
圖2.1 Shewhart 權數表示圖 8
圖2.2 CUSUM權數表示圖 8
圖2.3 EWMA權數表示圖 8
圖2.4 整合SPC和EPC示意圖 10
圖2.5管制圖選取之準則 12
圖 2.6 回饋控制迴圈示意圖 14
圖2.7 R2R回饋控制系統流程圖 20
圖3.1比例積分回饋控制系統之流程圖 24
圖4.1:在模式1下, 時, 與期望平方和 之關係 32
圖4.2在模式1下, 時, 與期望平方和 之關係 33
圖4.3:在模式2下, 時, 與期望平方和 之關係 35
圖4.4:在模式2下, 時, 與期望平方和 之關係 36
圖4.5:在模式3下, 時, 與期望平方和 之關係 38
圖4.6:在模式3下, 時, 與期望平方和 之關係 39
圖4.7:在模式4下, 時, 與期望平方和 之關係 42
圖4.8:在模式4下, 時, 與期望平方和 之關係 43
表目錄:
表一:在模式1下, 時, 組合下期望平方和 之值 32
表二:在模式3下, 時, 組合下期望平方和 之值 39
表三:在模式4下, 時, 組合下期望平方和 之值 42
參考文獻 參考文獻:
[1]林茂文(1992),“時間數列分析與預測”初版, 華泰書局。
[2]李水彬(2001),“多變量EWMA控制器之研究”清華大學統計研究所博士論
文。
[3]陳俊翔(1998),“應用EPC提昇製程管制之研究”中原大學工業工程研究所碩士論文。
[4]陳志豪(1999),“整合適應控制與回饋控制之製程管制系統”中原大學工業
工程研究所碩士論文。
[5]陳鄭勇(2000),“整合SPC與EPC以建構自我相關性製程之回饋控制系統”中
原大學工業工程研究所碩士論文。
[6]Box, G.E.P, and G.M. Jenkins(1976),“Time Series Analysis
—Forecasting and Control”. Holden-Day, San Francisco.
[7]Box, G.E.P, and A. Luceno(1997),“Discrete Proportional and
Statistical Process Control”. Journal of Quality Technology 29,
p248-260.
[8]Box, G.E.P, and T. Kramer(1992),“Statistical Process Monitoring and
Feedback Adjustment-A Discussion”. Technometrics 34, p251-285.
[9]Bulter, S.W. and J.A. Stefani(1994),“Supervisory Run to Run Control
of Polysilicon Gate Etch Using In Situ Ellipsometry”. IEEE Transactions
on Semiconductor Manufacturing 7, p193-201.
[10]Deming, W.E.(1986), Out of the Crisis, Massachusettes Institute of
Technology, Center for Advanced Engineering Studies, Cambridge, MA.
[11]Del Castillo, E. and A.M. Hurwitz(1997),“Run-to-Run Process
Control: Literature Review and Extensions”. Journal of Quality
Technology 29, p184-196.
[12]Hunter, J.S.(1986),“The Exponentially Weighted Moving Average”.
Journal of Quality Technology 18, p203-210.
[13]Ingolfsson, A. and E. Sachs(1993),“Stability and Sensitivity
of an EWMA Controller”. Journal of Quality Technology 25, p271-287.
[14]Ingolfsson, A. and E. Sachs(1995),“Run by Run Process Control:
Combinimg SPC and Feedback Control”. IEEE Transactions on Semiconductor
Manufacturing 8, p26-43.
[15]Janakiram, M. and J.B. Keats(1998),“Combining SPC and EPC in a Hybrid
industry” Journal of Quality Technology 30, p189-200.
[16]Montgomery, D.C. and J.B. Keats(1994),“Integrating
Statistical process Control and Engineering Process Control”. Journal of
Quality Technology 26, p79-87.
[17]Montgomery, D.C.(1996),“Introduction to Statistical Quality Control ”.
3th Ed. John Wiley and Sons, New York.
[18]MacGregor, J.F.(1987),“Interfaces Between Process Control and On-Line
Statistical Process Control”. A.I.CH.E. Cast Newsletter, p9-19.
[19]Smith, T.H., D.S. Boning, and S.M. Bulter(1998),“Run by Run
Advanced Control of Metal Sputter Deposition”. IEEE Transactions on
Semiconductor Manufacturing 11, p276-284.
[20]Sachs E. and Ingolfsson, A. (1990),“Tuning a Process While Performing
SPC: An Approach Based on the Sequential Design of Experiments”.
Proceeding of the Advanced Semiconductor Manufacturing Conf. and Workshop,
Danvers, MA, Sept. p10-12.
[21]Sachs, E., R. Guo, S. Ha, and A.Hu(1991),“Process Control System for VLSI
Fabrication”. IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 4, p134-
144.
[22]Tsung, F.,H. Wu, and V.N. Nair(1998),“On the Efficiency and
Robustness of Discrete Proportional-Integral Control Schemes”.
Technometrics 40, p214-222.
指導教授 王丕承(Pe-Cheng Wang) 審核日期 2002-6-28
推文 facebook   plurk   twitter   funp   google   live   udn   HD   myshare   reddit   netvibes   friend   youpush   delicious   baidu   

若有論文相關問題,請聯絡國立中央大學圖書館推廣服務組 TEL:(03)422-7151轉57407,或E-mail聯絡