博碩士論文 91226031 詳細資訊


姓名 余能枋(Neng-Fang Yu)  查詢紙本館藏   畢業系所 光電科學與工程學系
論文名稱 矽基閃耀式光柵於Grismlens複合式分波多工器之研究
(Si-based Blazed Grating for WDM System)
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摘要(中) 本文利用乾蝕刻或溼蝕刻等半導體製程方式,在不同材料上製作出不同角度的閃耀式光柵,本篇中將介紹四種,一、氮化矽(SiNx)薄膜穿透式閃耀光柵,二、方解石反射式閃耀光柵,三、矽(100)傾斜10o反射式閃耀光柵,四、矽45o反射式光柵,上述的四種方式可藉由調製蝕刻速率,或是改變切割晶體的角度,利用材料和溼蝕刻溶液反應的特性,製作出各種角度的光柵;另外使用半導體製程方式將更易於大量的穩定製造。
此外,也將上述的矽45o 光柵,配合稜鏡作封裝,實際的應用至所設計的200GHz 4 channel Grismlens(稜鏡式透鏡光柵)複合式分波多工器系統中,以波長為1540~1570nm的測試光源,配合矽分光鏡進行整體系統的光學特性量測,量測系統的插入損失為-24.25dB,在1dB單一通道帶寬達0.14nm,其中矽分光鏡的損耗-7.29dB,非球面鏡耦合至輸出光纖的效率為-2.3dB;將檢討問題所在,確定未來發展方向。
關鍵字(中) ★ 閃耀式光柵
★ 分波多工器
★ 溼蝕刻
★ 45度
關鍵字(英) ★ groove
★ wet etching
★ Grismlens
★ WDM
★ blazed grating
論文目次 目錄
論文摘要 I
目錄 II
圖索引 IV
表索引 X
第一章 緒論 1
1.0 前言 1
1.1 光柵製作演進及比較 2
1.2 各種光纖通訊分波多工器技術發展現況 12
1.3 Grismlens(稜鏡式透鏡光柵)複合式分波多工器概念 18
第二章 相關原理簡介 20
2.1 繞射光柵介紹 20
2.2 閃耀式光柵 24
2.3 光源與光纖的耦合 31
第三章 閃耀式光柵製作 35
3.0 製作概論 35
3.1 乾蝕刻技術在氮化矽薄膜上製作穿透式閃耀光柵 37
3.2 濕式蝕刻在方解石基板上製作閃耀式光柵 45
3.3濕式蝕刻在特殊切割的矽基板上製作閃耀式光柵 50
3.4濕式蝕刻在矽基板上製作45o groove 55
第四章 閃耀式光柵模擬及光學量測 72
4.0 前言 72
4.1 氮化矽薄膜灰階光柵 74
4.2 矽(100)傾斜10o基板閃耀式光柵 77
4.3 矽基板45o groove 79
第五章 Grismlens複合式分波多工器系統 86
5.0 前言 86
5.1 Grismlens複合式分波多工器系統之設計概念 86
5.2 Grism封裝及系統量測架設 90
5.3 Grismlens複合式分波多工器系統量測 93
5.4 結果分析與討論 95
第六章、結論與展望 101
參考文獻 105
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指導教授 張正陽(Jeng-Yang Chang) 審核日期 2004-7-9
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