博碩士論文 943303028 詳細資訊




以作者查詢圖書館館藏 以作者查詢臺灣博碩士 以作者查詢全國書目 勘誤回報 、線上人數:12 、訪客IP:3.139.70.131
姓名 陳美惠(Hui-Mei Chen)  查詢紙本館藏   畢業系所 機械工程學系在職專班
論文名稱 運用化學機械拋光法於玻璃基板表面拋光之研究
(A study on glass surface polishing by using the chemical mechanical polishing method)
相關論文
★ 電泳沉積輔助竹碳拋光效果之研究★ 凹形球面微電極與異形微孔的成形技術研究
★ 運用電泳沉積法於不鏽鋼鏡面拋光之研究★ 電化學結合電泳精密拋光不銹鋼之研究
★ 純水中的電解現象分析與大電流放電加工特性研究★ 結合電化學與電泳沉積之微孔複合加工研究
★ 放電加工表面改質與精修效果之研究★ 汽車熱交換器用Al-Mn系合金製程中分散相演化及再結晶行為之研究
★ 磁場輔助微電化學銑削加工特性之研究★ 磁場輔助微電化學鑽孔加工特性之研究
★ 微結構電化學加工底部R角之改善策略分析與實做研究★ 加工液中添加Al-Cr混合粉末對工具鋼放電加工特性之影響
★ 不同加工液(煤油、蒸餾水、混合液)對鈦合金(Ti-6Al-4V)放電加工特性之影響★ 放電與超音波振動複合加工添加TiC及SiC粉末對Al-Zn-Mg系合金加工特性之影響
★ 添加石墨粉末之快速穿孔放電加工特性研究★ 派熱司玻璃材料之電化學線切割放電加工特性之研究
檔案 [Endnote RIS 格式]    [Bibtex 格式]    [相關文章]   [文章引用]   [完整記錄]   [館藏目錄]   至系統瀏覽論文 ( 永不開放)
摘要(中) 光學玻璃有別於一般玻璃,須要具備良好的物理與化學特性,由於光學玻璃在生產或製造過程中,難免會有外觀規格上的瑕疵,實際應用上不是以區分等級來適用就是以廢棄物回收處理,若嘗試以添加自由磨粒輔助機械微研拋加工,使高硬度、低軔性又難加工的光學玻璃亦能獲得極少量移除效果並兼具光滑平整的工件表面,以達到所需的幾何外形要求。
對於光學玻璃而言,微研磨拋光加工參數對於加工件品質及加工效率的影響頗大,故如何訂定加工參數的最適化是相當大的難題,因此本研究是利用具有CNC加工功能的微雕刻機為加工設備,並將雕刻機的加工雕刻針頭置換成自製的研磨棒,於研磨棒底端加上拋光墊或不織布材料,以厚度0.7mm的康寧光學玻璃為被加工工件,置於氧化鈰 (CeO2) 研磨拋光液中,分別以研磨棒轉速、施加荷重、加工時間、拋光墊材料等參數進行加工,並針對每一種參數的趨勢與結果作分析與討論。
由實驗結果得知,使用粒徑為0.85~1.66μm (8000號)的CeO2及TZ-9000與PQH5拋光墊,對光學玻璃試片進行機械旋轉拋光時,於適當的荷重下研磨15min後即可將光學玻璃原始表面粗糙度值為Ra 0.3 μm(Rmax 3.7 μm)的損傷面,下降至Ra 0.03 μm左右 (Rmax 0.25μm左右)的鏡面水準。如以不織布進行研磨,於適當的荷重下,研磨15min後即可將光學玻璃改善Ra 0.04 μm左右 (Rmax 0.3μm左右)。
摘要(英) The difference between optical glass and generally glass, Optical glass need fine nature and chemical property, Due to optical glass in the process of manufacture, Can be to make a lot flaw in surface, So Application to use as differentiate between the rank or worked it to recycle, As if try use freedom polish to assist mechanical polishing working, To proffer high hardness、low ductility and difficult to work the surface get a little remove and smooth effect on optical glass, To get up to need geometry shape.
About optical glass, abstruse grind polishing parameter effect work quality and efficiency, An arduous problem what was look for definition work parameter best, So the research use CNC tiny sculpture mechanical for work equipment, needle of sculpture mechanical change stainless steel abrasive stick Completely, It increase the polish pad or non-woven fabric on the bottom of the polish stick, Workpicec use 0.7mm Corning optical glass, The optical glass into the polish water of the CeO2 , The control parameters of the polishinf process include the polishing time, the axial loading, work time, polishing material, Moreover, the experimental parameters results were also analyzed and discussed .
The experimental parameters results, CeO2 particles of size 0.85–1.66μm (#8000) were used in this study, optical glass After turning machined surface polishing, Base on the different parameters experimental results, TZ-9000N and PQH5 polishing pad, On the suitable time, 15 min after the initial roughness of surface could be improved from 0.3 μm Ra (3.7 μm Rmax )to 0.03 μm Ra(0.25 μm Rmax ). The use Non-woven fabric polishing pad after polishing, On the suitable time, 15 min after the initial roughness of surface could be improved from 0.3 μm Ra (3.7 μm Rmax )to 0.04 μm Ra(0.3 μm Rmax ).
關鍵字(中) ★ 氧化鈰
★ 研磨輪
★ 拋光
★ 玻璃基板
★ 表面粗糙度
★ 拋光墊
★ 不織布
★ 不繡鋼
關鍵字(英) ★ stainless steel
★ Non-woven fabric
★ polishing pad
★ optical glass
★ polishing
★ grind wheel
★ CeO2
★ roughness of surface
論文目次 中文摘要 i
英文摘要 ii
謝 誌 iv
目 錄 v
圖 目 錄 vii
表 目 錄 x
第一章 緒論 1
1-1前言 1
1-2 研究動機與目的 2
1-3 文獻回顧 4
1-4 研究方法 5
第二章 基礎原理 7
2-1化學機械拋光技術原理 7
2-2化學機械微研削加工基本原理 7
2-2化學機械微研削去除機制 8
2-3光學玻璃材料簡介及其應用 11
2-3-1 玻璃與光學玻璃之差異 11
2-3-2 TFT-LCD玻璃基板的製程技術 12
2-3-3 TFT-LCD玻璃基板的組成規格與特性 17
第三章 實驗設備、材料與方法 19
3-1實驗相關設備 19
3-2實驗材料 25
3-3 實驗設定與方法 32
第四章 實驗結果與討論 39
4-1化學機械拋光之參數影響探討 39
4-1-1研磨液濃度與拋光時間對表面粗糙度的影響 39
4-1-2 研磨棒轉速對表面粗糙度的影響 41
4-1-3 使用TZ-9000N拋光墊於不同荷重下對表面粗糙度的影響 43
4-1-4 使用不織布並施加不同荷重對表面粗糙度的影響 47
4-1-5 使用PQH5黑色拋光墊並施加不同荷重對表面粗糙度的影響 51
4-2 綜合探討不同拋光墊材料對表面粗糙度影響比較 55
4-2-1 軸向荷重40 g 55
4-2-2 軸向荷重70 g 58
4-2-3 軸向荷重100 g 61
第五章 結論 64
參考文獻 65
個人簡歷 67
參考文獻 1. 林彥穀,“氧化物磨粒漿料搭配超級磨輪於化學機械微研削製程以達光學玻璃之奈米平坦化” ,碩士論文, 逢甲大學材料科學研究所 (2003) 。
2. 張添晉、鄭啟璞、連奕偉,”廢玻璃資源回收管理與再利用技術” ,永續產業發展雙月刊(2003)。
3. 駱榮富,”研磨加工對氧化釔相穩定化氧化鋯表面顯微結構的影響” ,NSC-85-2216-E-035-21報告(1996) 。
4. 許笙載,”運用電泳沉積法於不鏽鋼鏡面拋光之研究” ,碩士論文,中央大學機械工程研究所 (2007) 。
5. 間宮富士雄、山口裕、渡邊與七,「化學研磨と電解研磨」,楨書店,p.113,(2004)。
6. 黃志龍,”淺談化學機械拋光的演進與應用”,機械工業雜誌(2000年5月)
7. L. M. CooK ,”Chemical Processes in glass Polishing”, Journal of
Non-Crystalline Solids, Vol. 120, pp.152-171 ,(1990) 。
8. T. K. Yu , C. C. Yu , M. Orlowski , “ A Statistical Polishing Pad Modal for
Chemical-Mechanical Polishing”, International Electron Devices Meeting
Technical Digest, pp.865-868 ,(1993) 。
9. C. W.Liu , B. T. Dai , W. T. Tesng , and C. F. Yeh ,”Modeling of the wear
Mechanism during Chemical-Mechanical Polishing”, Journal of
Electrochemical society, Vol. 143, pp.716-721,(1996) 。
10. Y. Xie , and B. Bhushan , “effects of Particle size , Polishing Pad and
Contact Pressure in Free Abrasive Polishing”, Wear ,Vol .200, pp281-295,
(1996) 。
11. D. G. Thakurta , C. L. Borset , D. W. Schwendeman , R. J . Gutmann , and
W. N. Gill , “ Pad Porosity , Compressibility and Slurry Delivery Effect in
Chemical-Mechanical Planarization : Modeling and Experiments”, Thin
Solid Flims , Vol .366, pp181-190,(2000) 。
12. 蔡宏榮和鄭友仁,”晶圓化學機械研磨之顆粒研磨漿料的磨潤分析”,第
24屆全國力學會議論文集(p001) ,(2000) 。
13. 許健興,”化學機械研磨用奈米級二氧化鈰粉體之合成”, 碩士論文, 逢甲
大學化學工程學系,(2002)
14. 劉金昇,”機械研磨對光學鏡片透光率之研究”, 碩士論文 , 中興大學機
械工程研究所,(2002) 。
15. 林明智,”化學機械研磨的微觀機制探討”, 碩士論文,中央大學化學工程
研究所,(2000) 。
16. N. S. Ong , and V. C. Venkatesh,” Semi-ductile grinding and Polishing of
Pyrex glass”, J. Man . Sci & Eng. , 83(1998)261-266。
17. H. Bach and N. Neuroth (td.), “ The Properties of Optical Glass”,
Springer-Verlag , Berlin (1995) pp.30-31。
18. 蔡獻逸,”液晶顯示器用玻璃基板”, 科學發展月刊(2006年406期)
19. 各廠商,全球產業研究中心, (2001年2月) 。
20. 顧鴻壽,”光電液晶平面顯示器技術基礎及應用”, 新文京開發出版有限
公司。
21. 孫麗雯,” 磨料噴射技術應用於模具鋼精微拋光之研究”, 碩士論文, 中
央大學機械工程研究所(2007)
指導教授 顏炳華(Biing-hwa Yan) 審核日期 2008-7-14
推文 facebook   plurk   twitter   funp   google   live   udn   HD   myshare   reddit   netvibes   friend   youpush   delicious   baidu   
網路書籤 Google bookmarks   del.icio.us   hemidemi   myshare   

若有論文相關問題,請聯絡國立中央大學圖書館推廣服務組 TEL:(03)422-7151轉57407,或E-mail聯絡  - 隱私權政策聲明