參考文獻 |
References
Chapter 1
[1.1] R. Schaller, IEEE Spectrum (1997) 52–59.
[1.2] G. E. Moore, Components 86 1(1998) 82–85.
[1.3] J. Xie, C. Lee, H. Feng, J. Microelectromech. Syst. 19 (2010) 317-324.
[1.4] X. Yu, Y. Wang, Y. Liu, T. Li, H. Zhou, X. Gao, F. Feng, T. Roinila, Y. Wang, J. Micromech. Microeng. 22 (2012) 105011.
[1.5] M. Strasser, R. Aigner, C. Lauterbach, T.F. Sturm, M. Franosch, G. Wachutka, Sens. Actuators A 114 (2004) 362.
[1.6] S. Ayazian, V. A. Akhavan, E. Soenen, A. Hassibi, IEEE Trans. Biomed. Eng. 6 (2012) 4.
[1.7] D. J. Stein, R. Nasby, R. K. Patel, A. Hsia, R. Bennett, Proc. of SPIE 6287 (2006) 62870.
[1.8] X. Cao, W. J. Chiang, Y. C. King, Y. K. Lee, IEEE Trans. Power Electron. 22 (2007) 2.
[1.9] H. Lhermet, C. Condemine, M. Plissonnier, R. Salot, P. Audebert, M. Rosset, IEEE J. SOLID STATE CIRCUITS 43 (2008) 1.
[1.10] M. Lundstrom, Technical Digest, 789 (2003) 33.1.1.
[1.11] C. Jungemann and B. Meinerzhagen, Technical Digest (2003) 191.
[1.12] A. G. O’neill and A. D. Antoniadis, IEEE Trans. Electron Devices 43 (1996) 911.
[1.13] V. A. Shah, A. Dobbie, M. Myronov, D. R. Leadley, Thin Solid Films 519 (2011) 7911.
[1.14] V. A. Shah, A. Dobbie, M. Myronov, D. R. Leadley, Solid-State Electron. 62 (2011) 189.
[1.15] K. F. Wang, Y. Zhang, W. Zhang, Appl. Surf. Sci. 258 (2012) 1935.
[1.16] G. Wang, R. Loo, S. Takeuchi, L. Souriau, J. C. Lin, A. Moussa, H. Bender, B. De Jaeger, P. Ong, W. Lee, M. Meuris, M. Caymax, W. Vandervorst, B. Blanpain, M. M. Heyns, Thin Solid Films 518 (2010) 2538.
[1.17] S. Ren, Y. Rong, T. I. Kamins, J. S. Harris, D. A. B. Miller, Appl. Phys. Lett. 98 (2011) 151108.
[1.18] S. Ren, Y. Rong, T. I. Kamins, J. S. Harris, D. A. B. Miller, IEEE Photon. Technol. Lett. 24 (2012) 461.
[1.19] Y. Moriyama, N. Hirashita, K. Usuda, S. Nakaharai, N. Sugiyama, E. Toyoda, S. I. Takagi, Appl. Surf. Sci. 256 (2009) 823.
[1.20] M. Kurosawa, N. Kawabata, T. Sadoh, M. Miyao, Appl. Phys. Lett. 100 (2012) 172107.
[1.21] T. Sakane, K. Toko, T. Tanaka, T. Sadoh, M. Miyao, Solid-State Electron. 60 (2011) 22.
[1.22] J. A. Carlina , C. L. Andreb , O. Kwonc , M. Gonzáleza , M. R. Luecka , E. A. Fitzgeraldd , D. M. Wilte , and S. A. Ringela ECS Transactions, 3 (2006) 729-743.
Chapter 2
[2.1] L. E. Brus, Columbia University (2007) Retrieved 2009-07-07.
[2.2] D. J. Norris (1995) Retrieved 2009-07-07.
[2.3] C. B. Murray, C. R. Kagan, M. G. Bawendi, Annu. Rev. Mater. Sci. 30 (2000) 545.
[2.4] Ekimov, A. I. & Onushchenko, A. A., JETP Lett. 34 (1981) 345.
[2.5] M. A. Reed, J. N. Randall, R. J. Aggarwal, R. J. Matyi, T. M. Moore, A. E. Wetsel , Phys. Rev. Lett. 60 (1988) 535.
[2.6] www.evidenttech.com: How quantum dots work. (2009) Retrieved 2009-10-15.
[2.7] J. C. Sturm, H. Manoharan, L. C. Lenchyshyn, M. L. W. Thewalt, N. L. Rowell, J.-P. Noël, and D. C. Houghton, Phys. Rev. Lett. 66 (1991) 1362.
[2.8] T. P. Pearsall, Electronic Materials Series No. 6, Quantum Semiconductor Devices and Technologies (2000).
[2.9] G. Xia, O. O. Olubuyide, and J. L. Hoyt, Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 013507.
[2.10] J. -M. Baribeau, X. Wu, and D. J. Lockwood, J. Vac. Sci. Technol. A 24 (2006) 663.
[2.11] H. Lüth, Appl. Surf. Sci. 130-132 (1998) 855-865.
[2.12] K. L. Wang, J. L. Liu, and G. Jin, J. Cryst. Growth 237-239 (2002) 1892-1897.
[2.13] M. Stoffel, U. Denker, and O. G. Schmidt, Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 3236.
[2.14] C. B. Li, R. W. Mao, Y. H. Zuo, L. Zhao, W. H. Shi, L. P. Luo, B. W. Cheng, J. Z. Yu, and Q. M. Wang, Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 2697.
[2.15] D. J. Eaglesham and M. Cerullo, Phys. Rev. Lett. 64 (1990) 1943.
[2.16] Y. -W. Mo, D. E. Savage, B. S. Swartzentruber, and M. G. Lagally, Phys. Rev. Lett. 65 (1990) 1020.
[2.17] J. A. Floro, G. A. Lucadamo, E. Chason, L. B. Freund, M. Sinclair, R. D. Twesten, and R. Q. Hwang, Phys. Rev. Lett. 80 (1998) 4717.
[2.18] U. Denker, O. G. Schmidt, N. Y. Jin-Philipp, and K. Eberl, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 3723.
[2.19] T. I. Kamins, E. C. Carr, R. S. Williams, and S. J. Rosner, J. Appl. Phys. 81 (1997) 211.
[2.20] F. M. Ross, J. Tersoff, and R. M. Tromp, Phys. Rev. Lett. 80 (1998) 984.
[2.21] A. Rastelli, H. von Känel, B. J. Spencer, and J. Tersoff, Phys. Rev. B 68 (2003) 115301.
[2.22] O. G. Schmidt, U. Denker, S. Christiansen, and F. Ernst, Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 2614.
[2.23] J. M. Villas-Boas, A. O. Govorov, S. E. Ulloa, Phys. Rev. B 69 (2004) 125342.
[2.24] G. Ortner, M. Bayer, Y. Lyanda-Geller, T. L. Reinecke, A. Kress, J. P. Reithmaier, A. Forchel, Phys. Rev. Lett. 94 (2005) 157401.
[2.25] C. Teichert, M. G. Lagally, L. J. Peticolas, J. C. Bean, and J. Tersoff , Phys. Rev. B 53 (1996) 16334.
[2.26] K. Sakamoto, H. Matsuhata, M. O. Tanner, D. Wang, and K. L. Wang, Thin Solid Films 321 (1998) 55.
[2.27] Y. H. Xie, S. B. Samavedam, M. Bulsara, T. A. Langdo, and E. A. Fitzgerald, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3567.
[2.28] S. Y. Shirgaev, E. V. Pedersen, F. Jensen, J. W. Petersen, J. L. Hansen, and A. N. Larsen, Thin Solid Films 294 (1997) 311.
[2.29] Q. Xie, A. Madhukar, P. Chen, and N. P. Kobayashi, Phys. Rev. Lett. 75 (1995) 2542.
[2.30] C. Teichert, J. Tersoff, and M. G. Lagally, Phys. Rev. B 53 (1996) 16334.
[2.31] G. Jin, J. L. Liu, S. G. Thomas, Y. H. Luo, K. L. Wang, and B. Y. Nguyen, Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 2752.
[2.32] G. Jin, J. L. Liu, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 3591.
[2.33] C. -H. Lin, C. -Y. Yu, C. -C. Chang, C. -H. Lee, Y. -J. Yang, W. S. Ho, Y. -Y. Chen, M. H. Liao, C. -T. Cho, C. -Y. Peng and C. W. Liu, Trans. on Nanotech. 7 (2008) 558.
[2.34] V. Jovanovic, C. Biasotto, L. K. Nanver, J. Moers, D. Gru¨tzmacher, J. Gerharz, G. Mussler, J. van der Cingel, J. J. Zhang, G. Bauer, O. G. Schmidt, and L. Miglio, IEEE Electron Device Lett. 31 (2010) 1083.
[2.35] L. K. Nanver, V. Jovanovic´, C. Biasottoa, J. Moers, D. Gru¨tzmacher, J. J. Zhang, N. Hrauda, M. Stoffel, F. Pezzoli, O. G. Schmidt, L. Miglio, H. Kosina, A. Marzegalli, G. Vastola, G. Mussler, J. Stangl, G. Bauer, J. van der Cingel, and E. Bonera, Solid State Electron. 60 (2011) 75.
[2.36] N. Hrauda, J. J. Zhang, E. Wintersberger, T. Etzelstorfer, B. Mandl, J. Stangl, D. Carbone, V. Holy, V. Jovanovic, C. Biasotto, L. K. Nanver, J. Moers, D. Grutzmacher, and G. Bauer, Nano Lett. 11 (2011) 2875.
[2.37] K. Kawaguchi, M. Morooka, K. Konishi, S. Koh, and Y. Shiraki, Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 817–819.
[2.38] S. Fukatsu, H. Sunamuru, Y. Shiraki, and S. Komiyama, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 258–261.
[2.39] O. P. Pchelyakov, Yu. B. Bolkhovityanov, A. V. Dvurechenskii, A. I. Nikiforov, A. I. Yakimov, and B. Voigtlander, Thin Solid Films 367 (2000) 75.
[2.40] O. P. Pchelyakov, Yu. B. Bolkhovityanov, A. V. Dvurechenskii, A. I. Nikiforov, A. I. Yakimov, and B. Voigtlander, Thin Solid Films 367 (2000) 75.
[2.41] J. L. Liu, W. G. Wu, A. Balandin, G. L. Jin, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 185.
[2.42] P. Boucaud, V. Le Thanh, S. Sauvage, D. De’barre, and D. Bouchier, Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 401.
[2.43] A. I. Yakimov, A. V. Dvurechenskii, A. I. Nikiforov, and Yu. Yu. Proskuryakov, J. Appl. Phys. 89 (2001) 5676.
Chapter 3
[3.1] V. Atluri, N. Herbots, D. Dagel, S. Bhagvat, S. Whaley, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B I I8 (1996) 144.
[3.2] Yuji Takakuwa, Masafumi Nogawa, Michio Niwano, Hitoshi Katakura, Satoshi Matsuyoshi, Hiroyuki Ishida, Hiroo Kato and Nobuo Miyamoto, Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) L1274.
[3.3] H. Bender, T. Trenkler, P.W. Mertens, M. Meuris, W. Vandervorst, M.M. Heyns, J. Appl. Phys., 77 (1995) 1323.
[3.4] U. Denker, M. Stoffel, O. G. Schmidt, Phys. Rev. Lett., 90 (2003) 196102-1.
[3.5] S. W. Lee, H. T. Chang, C. H. Lee, S. L. Cheng, C. W. Liu, Thin Solid Films 518 (2010) S196.
[3.6] H. T. Chang, C. C. Wang, J. C. Hsu, M. T. Hung, P. W. Li, S. W. Lee, Appl. Phys. Lett., 102 (2013) 101902.
[3.7] G. David, R. O. Pohl, Phys. Rev, B 35 (1987) 4067.
[3.8] Tsuneyuki Yamane, Naoto Nagai, Shin-ichiro Katayama, Minoru Todoki, J. Appl. Phys., 91 (2002) 9772.
[3.9] N. O. Birge, P. K. Dixon, N. Menon, Thermochimica Acta, 304-305 (1997) 51.
[3.10] E. S. Dettmer, B. M. Romenesko, H. K. Charles, Jr., B. G. Carkhuff, D. J. Mewll, IEEE transactions on components, hybrids, and manufacturing technology, 12 (1989) 543.
Chapter 4
[4.1] K. Eberl, M. O. Lipinski, Y. M. Manz, W. Winter, N.Y. Jin-Phillipp, O. G. Schmidt, Physica E 9 (2001) 164.
[4.2] K .L. Wang, J. L. Liu, G. Jin, J. Cryst. Growth 237 (2002) 1892.
[4.3] S. W. Lee, Y. L. Chueh, L. J. Chen, L. J. Chou, P. S. Chen, M. -J. Tsai, C. W. Liu, J. Appl. Phys. 98 (2005) 073506.
[4.4] H. C. Chen, S. W. Lee, L. J. Chen, Adv. Mater. 19 (2007) 222.
[4.5] J. T. Robinson, A. Rastelli, O. Schmidt, O. D. Dubon, Nanotechnology 20 (2009) 085708.
[4.6] R. A. Soref, Proc. IEEE 81 (1993), 1687.
[4.7] P. M. Mooney and J. O. Chu, Annu. Rev. Mater. Sci. 30 (2000), 335.
[4.8] M. L. Lee, E. A. Fitzgerald, M. T. Bulsara, M. T. Currie, and A. Lochtefeld, J. Appl. Phys. 97 (2005), 011101.
[4.9] L. Vescan, T. Stoica, O. Chretien, M. Goryll, E. Mateeva, A. Mück, J. Appl. Phys. 87 (2000) 7275.
[4.10] W. -H. Chang, A. T. Chou, W. Y. Chen, H. S. Chang, T. M. Hsu, Z. Pei, P. S. Chen, S. W. Lee, L. S. Lai, S. C. Lu, M. -J. Tsai, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2958.
[4.11] M. L. Lee, R. Venkatasubramanian, Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 053112.
[4.12] G. Medeiros-Ribeiro, A. M. Brathovski, T. I. Kamins, D.A.A. Ohlberg, R.S. Williams, Science 279 (1998) 353.
[4.13] A. Rastelli, M. Kummer, H. von Känel, Phys. Rev. Lett. 87 (2001) 256101-1.
[4.14] G. Medeiros-Ribeiro, R. S. Williams, Nano Lett. 7 (2007) 223.
[4.15] Y. Q. Wu, J. Zou, F. H. Li, J. Cui, J. H. Lin, R.Wu, Z. M. Jiang, Nanotechnology 18 (2007) 025404.
[4.16] S. W. Lee, L. J. Chen, P. S. Chen, M. -J. Tsai, C. W. Liu, T. Y. Chien, C. T. Chia, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 5283.
[4.17] T. U. Schülli, J. Stangl, Z. Zhong, R. T. Lechner, M. Sztucki, T. H. Metzger, G. Bauer, Phys. Rev. Lett. 90 (2003) 066105.
[4.18] A. V. Kolobov, H. Oyanagi, S. Wei, K. Brunner, G. Abstreiter, K. Tanaka, Phys. Rev. B 66 (2002) 075319.
[4.19] A. Rastelli, M. Stoffel, A. Malachias, T. Merdzhanova, G. Katsaros, K, Kern, T. H. Metzger, O. G. Schmidt, Nano Lett. 8 (2008) 1404.
[4.20] F. M. Ross, R. M. Tromp, M. C. Reuter, Science. 286 (1999) 1931.
[4.21] F. M. Ross, J. Tersoff, R. M. Tromp, Phys. Rev. Lett. 80 (1998) 984.
[4.22] G. Katsaros, G. Costantini, M. Stoffel, R. Esteban, A. M. Bittner, A. Rastelli, U. Denker, O. G. Schmidt, and K. Kern, Phys. Rev. B 72 (2005) 195320.
[4.23] S. W. Lee, H. T. Chang, C. H. Lee, S. L. Cheng, C. W. Liu, Thin Solid Films. 518 (2010) S196–S199.
[4.24] A. V. Kolobov, K. Morita, K. M. Itoh, E. E. Haller, Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3855.
Chapter 5
[5.1] K. Eberl, M. O. Lipinski, Y. M. Manz, W. Winter, N. Y. Jin-Phillipp, and O. G. Schmidt, Physica E 9 (2001) 164.
[5.2] K. L. Wang, J. L. Liu and G. Jin, J. Cryst. Growth 237 (2002) 1892.
[5.3] S. W. Lee, B. L. Wu, and H. T. Chang, J. Electrochem. Soc. 155 (2010) H174.
[5.4] J. T. Robinson, A. Rastelli, O. Schmidt, and O. D. Dubon, Nanotechnology 20 (2009) 085708.
[5.5] H. T. Chang, W. Y. Chen, T. M. Hsu, P. S. Shushpannikov, R. V. Goldstein, and S. W. Lee, Electrochem. Solid-State Lett.13 (2010) K43.
[5.6] N. Usami, Y. Araki, Y. Ito, M. Miura, and Y. Shiraki, Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 3723.
[5.7] L. Vescan, T. Stoica, O. Chretien, M. Goryll, E. Mateeva, and A. Mu ̈ck, J. Appl. Phys. 87 (2000) 7275.
[5.8] W. -H. Chang, A. T. Chou, W. Y. Chen, H. S. Chang, T. M. Hsu, Z. Pei, P. S. Chen, S. W. Lee, L. S. Lai, S. C. Lu, and M.-J. Tsai, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2958.
[5.9] S. W. Lee, Y. L. Chueh, L. J. Chen, L. J. Chou, P. S. Chen, M. -J. Tsai, and C. W. Liu, J. Appl. Phys. 98 (2005) 073506.
[5.10] J. Tersoff, C. Teichert, and M. G. Lagally, Phys. Rev. Lett. 76 (1996) 1675.
[5.11] O. G. Schmidt, O. Kienzle, Y. Hao, K. Eberl, and F. Ernst, Appl. Phys. Lett. 74 (1999) 1272.
[5.12] P. S. Chen, S. W. Lee, Y. H. Peng, C. W. Liu and M. -J. Tsai, Phys. Stat. Sol.(b) 241 (2004) 3650.
[5.13] U. Denker, M. Stoffel and O. G. Schmidt, Phys. Rev. Lett., 90 (2003) 196102.
[5.14] G. Katsaros, A. Rastelli, M. Stoffel, G. Isella, H. von Ka ̈nel, A. M. Bittner, J. Tersoff, U. Denker, O. G. Schmidt, G. Costantini, and K. Kern, Surf. Sci. 600 (2006) 2608.
[5.15] F. H. Li, Y. L. Fan, X. J. Yang, Z. M. Jiang, Y. Q. Wu, and J. Zou, Appl. Phys. Lett., 89 (2006) 103108.
[5.16] G. Katsaros, M. Stoffel, A. Rastelli, O. G. Schmidt, K. Kern, and J. Tersoff, Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 013112.
[5.17] S. W. Lee, C. H. Lee, H. T. Chang, S. L. Cheng, and C. W. Liu, Thin Solid Films, 517 (2009) 5029.
[5.18] S. W. Lee, H. T. Chang, C. H. Lee, S. L. Cheng, and C. W. Liu, Thin Solid Films, 518 (2010) S196.
Chapter 6
[6.1] G. J. Snyder, E. S. Toberer, Nature Mater. 7 (2008) 105.
[6.2] L. Shi, D. Yao, G. Zhang, B. Li, Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 173108.
[6.3] P. E. Hopkins, C. M. Reinke, M. F. Su, R. H. Olsson III, E. A. Shaner, Z. C. Leseman, J. R. Serrano, L. M. Phinney, I. El-Kady, Nano. Lett. 11 (2011) 107.
[6.4] X. Fan, G. Zeng, C. LaBounty, J. E. Bowers, E. Croke, Appl. Phys. Lett. 78 (2001) 1580.
[6.5] C. C. Wang, K. H. Chen, I. H. Chen, W. T. Lai, H. T. Chang, W. Y. Chen, J. C. Hsu, S. W. Lee, T. M. Hsu, M. T. Hung, P. W. Li, IEEE Trans. Nanotechnology. 11 (2012) 657.
[6.6] J. P. Dismukes, L. Ekstrom, E. F. Steigmeier, I. Kudman, and D. S. Beers, J. Appl. Phys. 35 (1964) 2899.
[6.7] Z. Wang, N. Mingo, Appl. Phys. Lett. 97 (2010) 101903.
[6.8] T. Koga, S. B. Cronin, M. S. Dresselhaus, J. L. Liu, K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 1490.
[6.9] N. F. Hinsche, I. Mertig, P. Zahn, J. Phys. Condens. Matter. 24 (2012) 275501.
[6.10] N. Mingo, D. Hauser, N. P. Kobayashi, M. Plissonnier, A. Shakouri, Nano. Lett. 9 (2009) 711.
[6.11] A. S. Henry, G. Chen, J. Comput. Theor. Nanosci. 5 (2008) 141.
[6.12] K. Hippalgaonkar, B. Huang, R. Chen, K. Sawyer, P. Ercius, A. Majumdar, Nano. Lett. 10 (2010) 4341.
[6.13] T. Borca-Tasciuc, W. Liu, J. Liu, T. Zeng, D. W. Song, C. D. Moore, G. Chen, K. L. Wang, M. S. Goorsky, T. Radetic, R. Gronsky, T. Koga, M. S. Dresselhaus, Superlattices Microstruct. 28 (2000) 199.
[6.14] B. Yang, J. L. Liu, K. L. Wang, G. Chen, Appl. Phys. Lett. 80 (2002) 1758.
[6.15] B. Yang, W. L. Liu, J. L. Liu, K. L. Wang, G. Chen, Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3588.
[6.16] J. L. Liu, A. Khitun, K. L. Wang, T. Borca-Tasciuc, W. L. Liu, G. Chen, D. P. Yu, J. Cryst. Growth. 1111 (2001) 227-228.
[6.17] J. L. Liu, A. Khitun, K. L. Wang, W. L. Liu, G. Chen, Q. H. Xie, S. G. Thomas, Phys. Rev. B 67 (2003) 165333.
[6.18] M. L. Lee, R. Venkatasubramanian, Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 053112.
[6.19] E. Mateeva, P. Sutter, J. C. Bean, M. G. Lagally, Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3233.
[6.20] S. W. Lee, H. T. Chang, C. H. Lee, S. L. Cheng, C. W. Liu, Thin Solid Films. 518 (2010) S196.
[6.21] J. J. Zhang, F. Montalenti, A. Rastelli, N. Hrauda, D. Scopece, H. Groiss, J. Stangl, F. Pezzoli, F. Schäffler, O. G. Schmidt, L. Miglio, G. Bauer, Phys. Rev. Lett. 105 (2010) 166102.
[6.22] J. Zhang, A. Rastelli, O. G. Schmidt, Günther Bauer, Appl. Phys. Lett. 97 (2010) 203103.
[6.23] Y. W. Chen, B. Y. Pan, T. X. Nie, P. X. Chen, F. Lu, Z. M. Jiang, Z. Y. Zhong, Nanotechnology. 21 (2010) 17.
[6.24] G. Katsaros, A. Rastelli, M. Stoffel, G. Isella, H. von K¨anel, A. M. Bittner, J. Tersoff, U. Denker, O. G. Schmidt, G. Costantini, K. Kern, Surf. Sci. 600 (2006) 2608.
[6.25] S. W. Lee, L. J. Chen, P. S. Chen, M. -J. Tsai, C. W. Liu, T. Y. Chien, C. T. Chia, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 5283.
[6.26] U. Denker, A. Rastelli, M. Stoffel, J. Tersoff, G. Katsaros, G. Costantini, L. Kern, N. Y. Jin-Phillipp, D. E. Jesson, O. G. Schmidt, Phys. Rev. Lett. 94 (2005) 216103.
[6.27] S. W. Lee, H. T. Chang, J. K. Chang, S. L. Cheng, J. Electrochem. Soc. 158 (2011) H1113.
[6.28] G. Katsaros, G. Costantini, M. Stoffel, R. Esteban, A. M. Bittner, A. Rastelli, U. Denker, O. G. Schmidt, K. Kern, Phys. Rev. B 72 (2005) 195320.
[6.29] V. Cherepanov, B. Voigtländer, Phys. Rev. B 69 (2004) 125331.
[6.30] J. J. Zhang, N. Hrauda, H. Groiss, A. Rastelli, J. Stangl, F. Schäffler, O. G. Schmidt, G. Bauer, Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 193101.
[6.31] M. G. Holland, Phys. Rev. 132 (1963) 2461.
[6.32] K. Hippalgonkar, B. Huang, R. Chen, K. Sawyer, P. Ercius, A. Majumdar, Nano Lett. 10 (2010) 4341.
Chapter 7
[7.1] D. J. Paul, Semicond. Sci. Technol. 19 (2004) R75.
[7.2] M. L. Lee, E. A. Fitzgerald, M. T. Bulsara, M. T. Currie, A. Lochtefeld, J. Appl. Phys. 97 (2005) 011101.
[7.3] K. Brunner, Rep. Prog. Phys. 65 (2002) 27.
[7.4] N. Hrauda, J. J. Zhang, J. Stangl, A. Rehman-Khan, G. Bauer, M. Stoffel, O. G. Schmidt, V. Jovanovich, L. K. Nanver, J. Vac. Sci. Technol. B 27 (2009) 912.
[7.5] L. Vescan, T. Stoica, O. Chretien, M. Goryll, E. Mateeva, A. Mück, J. Appl. Phys. 87 (2000) 7275.
[7.6] W. -H. Chang, A. T. Chou, W. Y. Chen, H. S. Chang, T. M. Hsu, Z. Pei, P. S. Chen, S. W. Lee, L. S. Lai, S. C. Lu, M. -J. Tsai, Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2958.
[7.7] M. L. Lee, R. Venkatasubramanian, Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 053112.
[7.8] M. Ya. Valakh, P. M. Lytvyn, A. S. Nikolenko, V. V. Strelchuk, Z. F. Krasilnik, D. N. Lobanov, A. V. Novikov, Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 141909.
[7.9] N. V. Vostokov, Yu. N. Drozdov, Z. F. Krasil’nik, D. N. Lobanov, A. V. Novikov, A. N. Yablonskii, M. Stoffel, U. Denker, O. G. Schmidt, O. M. Gorbenko, I. P. Soshnikov. Phys. Solid State. 47 (2005) 26–29.
[7.10] D. V. Yurasov, Yu. N. Drozdov, Semiconductors. 42 (2008) 563–570.
[7.11] Yu. N. Drozdov, A. V. Novikov, M. V. Shaleev, D. V. Yurasov, Semiconductors. 44 (2010) 519–524.
[7.12] D. N. Lobanov, A. V. Novikov, N.V. Vostokov, Y. N. Drozdov, A. N. Yablonskiy, Z. F. Krasilnik, M. Stoffel, U. Denker, O. G. Schmidt, Optical Materials. 27 (2005) 818-821.
[7.13] P. E. Hopkins, J. C. Duda, C. W. Petz, J. A. Floro, Phys. Rev. B 84 (2011) 035438.
[7.14] G. Katsaros, A. Rastelli, M. Stoffel, G. Isella, H. von Känel, A. M. Bittner, J. Tersoff, U. Denker, O. G. Schmidt, G. Costantini, K. Kern, Surf. Sci. 600 (2006) 2608.
[7.15] S. W. Lee , H. T. Chang , C. H. Lee , S. L. Cheng , C. W. Liu, Thin Solid Films. 518 (2010) S196–S199.
[7.16] P. S. Chen, S. W. Lee, Y. H. Peng, C. W. Liu, and M. J. Tsai. Phys. Stat. Sol. 241 (2004) 3650–3655.
[7.17] S. W. Lee, H. T. Chang, J. K. Chang, S. L. Cheng, J. Electrochem. Soc.. 158 (2011) H1113-H1116.
[7.18] H. T. Chang, C. C. Wang, J. C. Hsu, M. T. Hung, P. W. Li, and S. W. Lee. Appl. Phys. Lett. 102 (2013) 101902.
[7.19] D. V. Yurasov, Yu. N. Drozdov, M. V. Shaleev, and A. V. Novikov, Appl. Phys. Lett. 95 (2009) 151902.
[7.20] H. Sunamura, N. Usami, Y. Shiraki, and S. Fukatsu. Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 3024.
[7.21] G. Abstreitery, P. Schittenhelmy, C. Engely, E. Silveiray, A. Zrennery, D. Meertensz and W. Jager., Semicond. Sci. Tech. 11 (1996) 1521.
[7.22] U. Denker, A. Rastelli, M. Stoffel, J. Tersoff, G. Katsaros, G. Costantini, L. Kern, N. Y. Jin-Phillipp, D. E. Jesson, and O. G. Schmidt, Phys. Rev. Lett. 94 (2005) 216103.
[7.23] A. V. Kolobov, K. Morita, K. M. Itoh, E. E. Haller, Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3855.
[7.24] G. Pernot, M. Stoffel, I. Savic, F. Pezzoli, P. Chen, Natural Materials 9 (2010) 491.
[7.25] N. Mingo, D. Hauser, N. P. Kobayashi, M. Plissonnier and A. Shakouri., Nano Lett. 9 (2009) 711.
Chapter 9
[9.1] G. Vastola, M. Grydlik, M. Brehm, T. Fromherz, G. Bauer, F. Boioli, L. Miglio, F. Montalenti, Phys. Rev. B 84 (2011) 155415.
[9.2] A. Rastelli, O. G. Schmidt, G. Bauer, Appl. Phys. Lett., 97 (2010) 203103.
[9.3] J. J. Zhang, N. Hrauda, H. Groiss, A. Rastelli, J. Stangl, F. Schaffler, O. G. Schmidt, G. Bauer, Appl. Phys. Lett., 96 (2010) 193101.
[9.4] J. J. Zhang, F. Montalenti, A. Rastelli, N. Hrauda, D. Scopece, H. Groiss, J. Stangl, F. Pezzoli, F. Schäffler, O. G. Schmidt, L. Miglio, and G. Bauer, Phys. Rev. Lett, 105 (2010) 166102.
[9.5] J. Zhang, A. Rastelli, O. G. Schmidt, G. Bauer, Phys. Status Solidi, B 249 (2012) 752.
[9.6] M. V. Shaleev, A. V. Novikov, D. V. Yurasov, J. M. Hartmann, O. A. Kuznetsov, D. N. Lobanov, and Z. F. Krasilnik, Appl. Phys. Lett.,101 (2012) 151601.
[9.7] D. V. Yurasov,a Yu. N. Drozdov, M. V. Shaleev, A. V. Novikov, Appl. Phys. Lett., 95 (2009) 151902.
[9.8] A. I. Yakimov, A. I. Nikiforov, V. A. Timofeev, A. A. Bloshkin, V. V. Kirienko, A. V. Dvurechenskii, Semicond. Sci. Technol, 26 (2011) 085018.
[9.9] J. Tang, H. T. Wang, D. H. Lee , M. Fardy, Z. Huo, T. P. Russell , P. Yang, Nano Lett. , 10 (2010) 4279.
[9.10] S. W. Lee, B. L. Wu, H. T. Chang, J. Electrochem. Soc., 157 (2010) H174.
[9.11] P. E. Hopkins, J. C. Duda, C. W. Petz, J. A. Floro, Phys. Rev. B, 84 (2011) 035438. |