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姓名 紀慈禕(Tzu-yi Chi) 查詢紙本館藏 畢業系所 電機工程學系 論文名稱 電激發光子晶體發光二極體之設計與製作
(Design of Electrically Driven Photonic Crystal Light-Emitting Diodes)相關論文 檔案 [Endnote RIS 格式] [Bibtex 格式] [相關文章] [文章引用] [完整記錄] [館藏目錄] [檢視] [下載]
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摘要(中) 本論文成功地驗證室溫操作之電激發光子晶體結構應用於砷化銦量子點發光二極體。電激發結構應用在光子晶體微共振腔因阻值造成電流注入效益不佳以及聚積在微共振腔內部的潛熱問題,使得僅有極少數的研究成功論證。其中最具代表性的電激發技術為控制蝕刻預留腔體底部的柱子,藉此提供唯一電流路徑與改善潛熱問題。但此技術必須應用於大面積六角對稱光子晶體結構,避免腔體底部的柱子產生劇烈破壞品質因子等缺點。因此,我們的電激發結構設計引入重離子佈植法定義橫向電流流動的路徑以取代腔體底部柱子的必要性。藉此,我們所設計的電激發結構可廣泛應用於各式樣的光子晶體微共振腔,尤其是至今已證明具有高品質因子與低模態體積的Quasi-L2腔體、Point-shift腔體、以及L3腔體等。具備高Purcell因子的共振腔體是達成高效率單光子源必備的因素。本論文所設計的電激發結構可應用於高品質因子與低模態體積的共振腔體,將成為電激發光子晶體高效率單光子源的先驅。
本論文將所設計之電激發製程技術應用於Quasi-L2腔體,此 Quasi-L2腔體之品質因子可達 1600,其低模態體積可低至 0.019 um3,極有利於電激發光子晶體高效率單光子源之實現。摘要(英) We demonstrate an electrically driven InAs quantum dots (QDs) photonic crystal (PC) light emitting diode at room temperature. Previously, electrically driven PC optical cavities were realized by a post under the center of a PC cavity. The post provides a path for both current flow and heat dissipation. However, this type of device is only suitable for large-area and hexagonal- symmetric PC cavities because of the constraint of chemical etching process. In addition, the presence of the post degrades the field distribution and thus the quality factor of the cavity. Therefore, whisper-gallery-mode-like cavity structures become necessary. On the other hand, cavities with high quality factor, such as L3 cavities, or extremely low mode-volume, such as qL2 cavities, are excellent candidates for quantum electrodynamics physics and devices, but difficult to be processed by the same approach. In this study, the current conduction is defined by ion-implantation on a qL2 cavity. Quality factors as high as 1600 are achieved. The mode-volume of the qL2 cavity is calculated to be 0.019 um3. The Purcell factor is estimated to be approximately 400. This is a major step toward high-efficiency electrically driven single photon sources. 關鍵字(中) ★ 光子晶體
★ 離子佈植
★ 品質因子
★ 模態體積
★ 單光子源關鍵字(英) ★ mode-volume
★ quality factors
★ single photon sources
★ ion-implantation
★ photonic crystal論文目次 中文摘要 i
英文摘要 ii
致謝 iii
目錄 v
圖目錄 vii
表目錄 ix
第一章 導論 1
1-1 光子晶體發展史與簡介 1
1-2 研究背景與動機 6
第二章 理論基礎與簡介 10
2-1 模擬方法與理論 10
2-2 實驗方法與理論 11
2-2.1 離子佈植 11
2-2.2 離子佈植模擬 12
2-2.3 離子佈植電性分析 15
2-3 結論 16
第三章 電激發光子晶體元件設計 17
3-1 前言 17
3-2 電激發光子晶體結構設計 19
3-2.1 量子點磊晶結構 19
3-2.2 電激發光子晶體結構 21
3-3 電激發光子晶體元件分析 24
3-3.1 氧離子佈植電性分析 24
3-3.2 光子晶體元件電性分析 25
3-3.3 離子佈植對於光子晶體光性分析 27
3-4 結論 30
第四章 電激發光子晶體元件製作 31
4-1 前言 31
4-2 元件製作流程 32
第五章 電激發光子晶體量測結果與討論 42
5-1 前言 42
5-2 元件特性分析與討論 43
5-2.1 量測系統簡介 43
5-2.2 元件光性分析與討論 45
5-3 結論與未來展望 49
參考文獻 51
圖 目 錄
圖1-1. 一維、二維、三維光子晶體結構示意圖 2
圖1-2. 西元1999年O. Painter提出的光子晶體薄板結構圖 3
圖1-3. 不同腔體型式的光子晶體共振腔 4
圖1-4. P. Bhattacharya與Y. H. Lee 團隊個別提出的電激發結構 6
圖1-5. Y. H. Lee 團隊提出電激發結構中光子晶體腔體具備之特性 8
圖2-1. 離子佈植機結構示意圖 12
圖2-2. 氧離子佈植砷化鎵材料中能量與佈植深度的關係 14
圖2-3. 氧離子能量30KeV佈植砷化鎵材料的投影射程分佈 14
圖2-4. 氧離子能量30KeV佈植Si3N4/GaAs的投影射程分佈 15
圖2-5. 傳輸線模型示意圖 16
圖3-1. 電激發光子晶體元件示意圖 18
圖3-2. 電激發元件量子點磊晶結構與光激發光譜量測 20
圖3-3. 光子晶體於縱向導通結構的電流示意圖 21
圖3-4. 電激發元件絕緣區域與電流流向剖面示意圖 23
圖3-5. 離子佈植元件白光成像圖與 IR camera 收光圖 25
圖3-6. 光子晶體週期數對元件電阻值與腔體品質因子的關係 26
圖3-7. 光子晶體週期數為12層時元件電壓電流特性 27
圖3-8. 不同氧離子佈植區域折射指數對於qL2腔體共振能量的變化 29
圖3-9. 不同氧離子佈植區域對於qL2腔體共振波長的變化 30
圖4-1. 電激發元件平台與光子晶體空氣柱蝕刻示意圖 31
圖4-2. 電激發光子晶體元件製作流程 33
圖4-3. 電激發元件Mesa的OM圖 35
圖4-4. Si3N4離子佈植遮擋層的OM圖 36
圖4-5. 砷化鎵歐姆接觸電極的OM圖 37
圖4-6. 光子晶體元件與電激發元件對準圖 38
圖4-7. 光子晶體空氣柱蝕刻側壁SEM圖 39
圖4-8. 氫氟酸濕式蝕刻後光子晶體薄板的SEM圖 40
圖4-9. 電激發光子晶體元件與qL2腔體SEM圖 41
圖5-1. 電激發光子晶體元件示意圖 42
圖5-2. micro-EL量測系統圖 44
圖5-3. qL2腔體光激發螢光光譜與電激發螢光光譜比較圖 47
圖5-4. 電激發光子晶體元件電流分佈圖 47
圖5-5. qL2腔體電激發螢光光譜比較圖 48
圖5-6. 利用氧離子佈植抑制元件外圍量子點訊號示意圖 50
表 目 錄
表1-1. 電激發光子晶體元件特性比較 9
表2-1. 離子佈植前後材料片電阻差異 16
表4-1. 製程機台型號表 32參考文獻 [1] E. Yablonovitch, “Inhibited Spontaneous Emission in Solid-State Physics and Electronics”, Phy. Rev. Lett., 58, 2059(1987)
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