平行光式曝光機之研究

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姓名

陳彥安(Yen-An Chen) 查詢紙本館藏

畢業系所

光電科學與工程學系

論文名稱

平行光式曝光機之研究
(The Research of Collimated Exposure Machine)

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摘要(中)

本研究進行平行光式曝光機之光學部分研究與發展；從概念發展介
紹、光源部分的光學模擬、及各個光學元件的組裝技術探討。本研究之平
行光式曝光機以短弧氙氣燈為光源，經過各式光學元件將均勻化後之平行
光做為微影的光源，先以LightTools 設計，再以設計值為藍本，以國產的
光學元件替代普遍以國外進口的曝光機光學元件，做出一台達到業界規範
均勻度4%的125mmX125mm 平行光式曝光機，且從設計到製造全由國內
之廠商完成。本研究所發展之技術可用於PCB 板，FPD 等製程之應用，
相當值得進一步研究與發展。

摘要(英)

In this study, we present a research and development of a collimated
exposure machine. The introduction of concept of development, the simulation of
the optical system and the assembly of the optical components. The study of
collimated exposure machine use xenon short-arc lamp as the light source,
through a variety of optics ,the light will be homogenized. LightTools is used as
a design program, then use the optics which are made in Taiwan to build an optics
system to complete the designation. The result is a 125mmX125mm exposure area
with 4% uniformity exposure machine. The simulation and the assembly of the
optical system for the exposure machine use for PCB and FDP manufacture
process are the major issue of this tractate.

關鍵字(中)

★ 曝光機
★ PCB
★ LCD
★ 微影

關鍵字(英)

★ exposure machine
★ lithographic
★ PCB
★ LCD

論文目次

摘要 .......................... i
ABSTRACT ...................... ii
致謝 ......................... iii
目錄 .......................... iv
圖目錄 ........................ vi
表目錄 ....................... vii
第一章緒論 ...................... 1
1-1 研究背景 ..................... 1
1-2 研究動機 ..................... 2
第二章曝光機系統介紹 ............... 3
2-1 接觸式 (contact printing) ...... 3
2-2 非接觸式 (proximity printing)... 4
2-3 投影式 (projection printing)….……5
第三章平行光式曝光機光學裝置設置 ...... 6
3-1 平行光式曝光機光學架構概念介紹 ..... 6
3-2 平行光式曝光機模擬方法 ............ 7
v
3-2-1 光源部分……………………………………….7
3-2-2 光線均勻化 …………………………………10
3-2-3 平行光鏡 ………………………………………14
3-2-4 完整光學架構 …………………………. 14
3-2-5 用LightTools 分析 ………………15
第四章實驗驗證 ............... 21
4-1 設備架設 ................. 21
4-2 結果量測 ................. 23
4-3 差異分析 ................. 26
4-4 產品比較……………………………………...……26
第五章結論與未來展望........... 29
參考文獻...................... 30

參考文獻

[1] Chris A. Mark, “Field Guide to Optical Lithoraphy”, SPIE PRESS,
Bellingham , (2006)
[2] Virendra N. Mahajan, “Optical Imaging and Aberrations”, Part I-Ray
Geometrical Optics, SPIE PRESS, Bellingham (1998)
[3] Joseph W. Goodman, “Introduction to Fourier Optics”, McGraw-Hill, New
York (1996)
[4] Robert E. Fischer and Biljana Tadic-Galeb, “Optical System Design”,
McGraw-Hill, New York (2001)
[5] Joseph M. Geary, “Introduction to Lens Design”, Willmann-Bell, Inc. (2002)
[6] 孫文信, 幾何光學講義, 中央大學光電科學與工程學系 (2011)
[7] 伍秀菁、汪若文、林美吟, ”光學元件精密製造與檢測”, ,國家實驗研究院
儀器科技研究中心(2007)
[8] 台灣電路板協會, 電路板影像轉移技術, 台灣電路板協會2006
[9] Angelo Arecchi, R. John Koshel, Tahar Messadi “Field Guide to
Illumination”, SPIE PRESS, Bellingham , (2007)
[10] 孫文信, 光學設計軟體實作, 中央大學光電科學與工程學系 (2012)
[11] James M. Palmer and Barbara G. Grant “The Art of Radiometry” SPIE
31
PRESS, Bellingham (2010)

指導教授

張榮森(Rong-Seng Chang)

審核日期

2014-7-25

推文