以作者查詢圖書館館藏 、以作者查詢臺灣博碩士 、以作者查詢全國書目 、勘誤回報 、線上人數:29 、訪客IP:13.58.45.238
姓名 蔡來福(Lai-fu Tsai) 查詢紙本館藏 畢業系所 光電科學與工程學系 論文名稱 以電漿輔助化學氣相沉積法室溫成長氧化鋅薄膜之研究 相關論文
★ 大面積低溫微波電漿輔助化學氣相沉積矽薄膜之研究 ★ 超硬保護膜之抗腐蝕研究 ★ 大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究 ★ 低溫製作大晶粒複晶矽薄膜之研究 ★ 低溫大面積直接沉積複晶矽薄膜之技術開發 檔案 [Endnote RIS 格式] [Bibtex 格式] [相關文章] [文章引用] [完整記錄] [館藏目錄] [檢視] [下載]
- 本電子論文使用權限為同意立即開放。
- 已達開放權限電子全文僅授權使用者為學術研究之目的,進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。
- 請遵守中華民國著作權法之相關規定,切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送,以免觸法。
摘要(中) 本研究採用管狀高週波電感耦合式電漿輔助化學氣相沈積系統,以二乙基鋅及氧氣之混合氣體為原料,在玻璃基板上合成氧化鋅薄膜。研究著重於探討高週波輸入位置及能量、輸入氣體組成等參數對薄膜特性的影響。所得薄膜以探針測厚儀(á-step)測量厚度、傅氏紅外線光譜儀(FTIR Spectroscopy)作鍵結分析、X-光繞射儀作結晶性分析及
掃描式電子顯微鏡(SEM)作表面形態分析。
由實驗中可發現,輸入DEZ 原料60mTorr 時,加入適當的氧氣43∼47mTorr,高週波能量輸入5W時,成長出含電漿高分子的氧化鋅薄膜,其中電漿高分子成分為最低。輸入氧氣56mTorr 時、高週波能量8W時,可得到具(002) 面preferred orientation 的氧化鋅薄膜,本研究已初步完成氧化鋅薄膜的成長,但仍含有少量的電漿高分子的成
份。關鍵字(中) ★ 電漿輔助化學氣象沉積法
★ 氧化鋅
★ 薄膜關鍵字(英) ★ RFPECVD
★ thinfilm
★ ZnO論文目次 摘要........................................................i
謝誌.......................................................ii
目錄......................................................iii
圖目錄......................................................v
表目錄...................................................viii
第一章簡介..................................................1
第二章文獻回顧..............................................2
2.1 氧化鋅薄膜的特性........................................2
2.2 氧化鋅薄膜之應用........................................5
2.2.1 表面聲波元件之壓電材料................................5
2.2.2 透明導電膜...........................................13
2.2.3 氣體感測器...........................................13
2.3 氧化鋅薄膜之製程.......................................14
2.3.1 濺鍍法...............................................14
2.3.2 有機金屬化學氣相沈積法...............................17
2.4 電漿輔助化學氣相法之簡介...............................18
第三章實驗方法與步驟.......................................26
3.1 系統設備...............................................26
3.2 流量與系統壓力的關係...................................28
3.3 實驗步驟...............................................32
3.4 薄膜測試項目及分析儀器.................................33
第四章結果與討論...........................................34
4.1 金屬鋅膜的成長.........................................34
4.2 氧化鋅膜的合成.........................................40
4.2.1 A 組實驗討論.........................................40
4.2.2 B 組實驗討論.........................................52
第五章結論與展望...........................................63
5.1 結論...................................................67
5.2 未來展望...............................................67
圖目錄 圖頁數
1. Crystal structure of zinc oxide.........................3
2. 表面聲波元件示意圖.....................................10
3. 指狀電極示意圖.........................................11
4. ZnO/DLC/Si 結構之表面聲波元件..........................12
5. 氬氣電漿之壓力與電漿電子溫度之關係.....................20
6. PECVD 的反應機構圖.....................................25
7. 沉積氧化鋅之系統裝置圖.................................27
8. 各種氣體之流量與壓力之關係圖...........................31
9. 鋅膜的SEM 照片.........................................36
10. 鋅膜的X-ray 繞射圖譜..................................38
11. A 組實驗輝光分布圖....................................43
12. 實驗A2 各樣本之X-ray 繞射圖譜.........................44
13. 在D=5cm 處所得各薄膜X-ray 繞射圖譜之比較..............45
14. A2 及A4 在D=5cm 處所得薄膜之X 光繞射圖譜..............46
15. 實驗A4 D=5cm 氧化鋅薄膜之SEM 照片.....................47
16. A5 實驗中各位置的X-ray 繞射圖譜.......................49
17. A5 在D=5, 25cm 樣本的IR 吸收光譜圖....................50
18. A5 實驗D=45cm 樣本的SEM 照片..........................51
19. A5 實驗D=55cm 樣本的SEM 照片..........................51
20.高週波能量輸入位置Input#16 Ground#12 的電漿波形........53
21. B1~B5 在D=5cm 處各樣本的IR 吸收光譜比較...............54
22. B 組實驗X 光譜射圖譜..................................55
23. B6 實驗的X-ray 光譜圖比較.............................57
24. B6 實驗IR 吸收光譜比較圖..............................58
25. B6 D=7.5cm 處的SEM 的照片.............................59
26. B7 在各位置的IR 吸收光譜比較..........................60
27. B7 各位置的X-ray 繞射圖譜.............................61
28. B7 D=5cm 位置的SEM 照片...............................62
29. B7 D=5cm 位置的SEM 照片...............................62
30. 實驗B8 各位置IR 吸收光譜圖............................64
31. 實驗B8 各位置X-ray 繞射圖譜...........................65
32. B5~B8 D=5cm 處IR 光譜圖之較...........................66
表目錄
表頁數
1.氧化鋅性質表............................................4
2.表面聲波元件結構比較....................................7
3.氧化鋅薄膜以濺鍍法成長之成果...........................16
4.冷熱漿之比較...........................................21
5.各種鍵結的Binding Energy...............................37
6.鋅與氧化鋅的X-Ray 繞射資料.............................39
7.各實驗的系統操作條件...................................42參考文獻 1. A. F. Brown “Crystal Physics ”1965
2. R. M. White and F. W. Voltmer ,“Direct piezoelectric coupling to
surface elastic waves”, Appl. Phys. Lett.Vol. 7(1965),314-316
3. H. Nakahata, K. Higaki, S. Fujii and A. Hachigo,“SAW devices on
diamond,” IEEE Ultrasonics. Symp. Proc.,(1995)361-371
4. A. Hachigo, H. Nakahata, K. Higaki and S. Fujii, “Heteroepitaxial
growth of ZnO films on diamond (111) plane by magnetron sputtering,”
Appl. Phys. Lett. Vol. 65,(20), 14 (1994)
5. H. L. Hartnagel, A. K. Jagadish, “Semiconducting Transparent Thin
Films”,(1995),published by Institute of Physics Publishing
6. T. G. Nenov and S.P. Yordanov, “Ceramic sensor technology and
applications”, Technomic Publishing Company,Inc.,Pensylvania(1996)
7. Chubachi M, Minakata M, Kikuchi Y, Jpn. J. Appl. Phys.
8. C. R. Aita, A. J. Purdes, R. J. Lad, and P. D. Funkenbusch, “The effect
of O2 on reactively sputtered zinc oxide,” J. Appl. Phys. Vol. 51,
9. K. B. Sundaram, A. Khan, “Characterization and optimization of zinc
oxide films by r.f. magnetron sputtering,”Thin Solid Film
10. Y. Yoshino, K. Inoue, M. Takeuchi, T. Makino, Y. Katayama,
T. Hata“Effect of substrate surface morphology and interface
microstructure in ZnO thin film formed on various subatrates,”Vacuum
59 (2000) p403-410
11. S. Muthukumar, C. R. Corla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, Y. Lu
“ Control of morphology and orientation of ZnO thin films grown
on SiO2/Si substrates ”Journal of Crystal Growth 225(2001)
197-2001
12. N. W. Emanetoglu, S. Liang ,C. R. Corla, Y. Lu, “Epitaxial Growth
and Characterization of High Quality ZnO Films for Surface Acoustic
Wave Application ,”IEEE Ultrasonics. Symp. Proc(1995)p195-199
13. M. Konuma, Films Deposition by Plasma Technique, Published by
Springer-Verlag, (1992)
14. Pei-Li Chen ,”Electromechanical Behavior of Zinc and
Plasma-deposited Zinc in Sulfate Electrolytes ”(1987)
15. H. Nakahata, H. Kitabayashi, S. Fujii, K Tanabe, Y. Seki and S.
Shikata “ Fabrication of 2.5GHz SAW retiming filter with
SiO2/ZnO/diamond structure” IEEE Ultrasonics. Symp.
(1996)p285-288
16. K. Higaki, H. Nakahata, H. Kitabayashi, S. Fujii, “High Power
Durability of Diamond Surface Acoustic Wave Filter ”IEEE
Transactions on Ultrasonics , Ferroelectrics , and Frequency Control
Vol.44 NO. 6 , (1997) p1395-1400指導教授 陳培麗(Pei-Li Chen) 審核日期 2002-7-12 推文 facebook plurk twitter funp google live udn HD myshare reddit netvibes friend youpush delicious baidu 網路書籤 Google bookmarks del.icio.us hemidemi myshare