高密度全像光柵用於光譜分析之研究

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姓名

溫育銓(Yu-Chuan Wen) 查詢紙本館藏

畢業系所

光電科學與工程學系

論文名稱

高密度全像光柵用於光譜分析之研究

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摘要(中)

相較於一般的刻劃光柵，全像光柵高解析度的優點，因此將這優點應用於光譜分析中，對於波長從476.7nm~514.5nm這波長範圍具有極高的準確度，甚至可幫助光譜儀的設計。現階段LED產業的蓬勃發展掌控其光學參數更是重要，因此本文中再加入LED的量測，期望在未來中幫助產業提供一個光譜分析的方法。

關鍵字(中)

★ 全像光柵

關鍵字(英)

★ holographic grating

論文目次

摘要
目錄 IV
圖索引 VI
表索引 VIII
第一章緒論 1
1.1研究動機 1
1.2論文大綱與架構 2
第二章高密度全像光柵之特性 3
2.1高密度全像光柵之簡介 3
2.2高密度全像光柵之繞射角度計算 6
2.3高密度全像光柵之繞射理論 10
2.3.1向量繞射理論 10
2.3.2純量繞射理論 17
2.3.3向量繞射理論和純量繞射理論之比較 19
2.4全像光柵繞射效率之模擬與實驗量測 20
第三章光譜分析之系統設計 28
3.1系統架構 28
3.2平行度的分析 30
3.3模擬結果分析 35
第四章模擬與實驗量測比較 43
4.1實驗架構 43
4.1.1實驗上定位的誤差分析 46
4.2 實驗結果與分析 52
4.2.1能量修正 52
4.2.2實驗結果分析 55
4.3 光譜位置關係 60
4.3.1氬離子雷射其光譜位置關係 60
4.3.2 LED光譜分析測試 63
第五章結論 66
參考文獻 67

參考文獻

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指導教授

孫慶成(Ching-Cherng Sun)

審核日期

2004-7-15

推文