矽基材料共振波導光柵之濾波器

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周昱宏(Yue-Hom Chou) 查詢紙本館藏

畢業系所

光電科學與工程學系

論文名稱

矽基材料共振波導光柵之濾波器
(Si-based Guided Mode Resonance Filter)

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摘要(中)

光學濾波器，雖然不易觀察到，但在光學領域中，卻是最重要的，
它可以篩選出想要之波長，或是摒除不要之波長，而在傳統製作之濾
波器，都是利用薄膜堆積產生之干涉所達到濾波之效果，但由於其為
多層薄膜堆疊，因此相對而言製程容忍度低。本論文利用了新形式的
方式產生濾波的效果，其主要是利用次波長光柵加上波導在其相位匹
配時，會產生之共振情形，因而使得其穿透頻譜具有篩選波長的能
力，達到濾波的效果。
現今的台灣，全世界半導體的重鎮，對於製作在矽基版上面的
元件非常得心應手，現階段的製成對於製作次波長的線寬來說也不是
問題，而且已經朝向幾十奈米的線寬邁進。因此，本文利用目前已經
發展成熟的半導體製程技術與微光機電系統
（Micro-Optical-Electro-Mechanical-Systems，MOEMS）製程技術來
製作矽基版波導模態共振濾波器。而且由於其製作在矽基版上，容易
和其他矽基元件整合，因此可以容易整合成SoC（System on a Chip）系統。

關鍵字(中)

★ 矽基
★ 波導光柵
★ 濾波器

關鍵字(英)

★ filter
★ GMR

論文目次

摘要..................................... I
目錄.....................................II
圖目錄....................................V
表目錄...................................VIII
第一章導論................................1
1-1 光學薄膜濾波器........................3
1.2 波導模態共振濾波器簡介................5
1.3 研究矽基版波導模態共振濾波器之動機....9
第二章波導模態共振濾波器原理..............10
2.1 繞射式光柵相關理論....................12
2.1.1 廣義光柵公式（General Grating Equation)...13
2.2 次波長光柵............................15
2.2.1 等效介質理論........................16
2.2.2 嚴格耦合波理論......................19
2.3 波導共振效果..........................23
2.4 波導..................................26
2.5 GMR共振條件和共振位置.................27
第三章波導模態共振濾波器之設計............29
3.1 氮化矽薄膜............................31
3.2 多晶矽薄膜............................34
3.3 寬頻的波導共振頻譜....................36
3.4 平坦的波導模態共振頻譜................40
第四章矽基板波導模態共振器之製作..........47
4.1 矽基板波導模態共振器製作流程..........47
4.2 薄膜沉積..............................51
4.2.1 氮化矽（SiNx）薄膜沈積..............52
4.2.2 多晶矽（poly-Si）薄膜沈積...........53
4.3 微影（Photolithography）製程..........54
4.4 蝕刻（Etching）製程...................55
4.4.1 乾式蝕刻簡介........................56
4.4.2 感應耦合電漿離子蝕刻機（ICP）.......57
4.4.3 乾蝕刻環境的影響....................58
4.4.4 蝕刻石英與二氧化矽..................60
4.4.5 蝕刻氮化矽..........................62
4.4.6 蝕刻多晶矽（poly-Si）...............63
4.5 濕式蝕刻..............................64
第五章波導共振濾波器之量測結果............66
5.1 GMR製作在氮化矽薄膜量測...............66
5.2 GMR製作在多晶矽薄膜量測...............72
5.3 量測平坦頻譜之GMR ....................75
第六章結論................................78
參考文獻..................................80

參考文獻

參考文獻
[1] http://www.nano.com.tw/
[2] 李正中,“薄膜光學與鍍膜技術”第三版
[3] S. S. Wang, R. Magnusson, J. S. Bagby, and M. G. Moharam,
"Guided-mode resonances in planar dielectric-layer diffraction
gratings," J. Opt. Soc. Am. A 8, 1470 (1990).
[4] S. S. Wang, R. Magnusson, J. S. Bagby, and M. G. Moharam,
"Waveguide mode-induced resonances in planar diffraction gratings,"
in Annual Meeting, Vol. 18 of 1989 OSA Technical Digest Series
(Optical Society of America, Washington, D.C., 1989), p. 117.
[5] R. Magnusson and S. S. Wang, "New principle for optical filters,"
Appl. Phys. Lett. 61, 1022 (1992).
[6] R. W. Wood, ‘‘On a remarkable case of uneven distribution of light in
a diffraction grating spectrum,’’ Philos. Mag. 4, 396 (1902).
[7] A. Hessel and A. A. Oliner, "A new theory of Wood's anomalies on
optical gratings," Appl. Opt. 10, 1275 (1965).
[8] A. Sharon, D. Rosenblatt, and A. A. Friesem ” Resonant
grating–waveguide structures for visible and near-infrared radiation” J.
Opt. Soc. Am. A 14. 11 2985(1997)
[9] R. Magnusson, D. Shin, and Z. S. Liu. “Guided-mode resonance
Brewster filter,” Opt. LETTERS 23, 612(1998)
[10] E. B. Grann, M. G. Moharam, and D. A. Pommet, “Artificial uniaxial
and biaxial dielectrics with use of two-dimensional sub-wavelength
binary gratings”, J. Opt. Soc. Am. A 11, 2695 (1994)
[11] S. Sinzinger and J. Jahns, Microoptics, Wiley-Vch, New York, 166
(1999)
[12] R. C. Tyan, P. C. Sun, A. Scherer, and Yeshayahu, “Polarizing beam
splitter based on anisotropic spectral reflectivity characteristic of
form-birefringent multilayer gratings “, Opt. Let. 21, 761 (1996)
80
[13] Kaspar F.G. ”Diffraction by thick, periodically stratified grating with
complex dielectric constant,” J. Opt. Soc. Am. 63, 37（1973）
[14] Knop K. “Rigorous diffraction theory for transmission phase grating
with deep rectangular grooves,”J. Opt. Soc. Am. 68 1206（1978）
[15] M. G.. Moharam and T. K. Gaylord, ”Rigorous coupled-wave
analysis of planar-grating diffraction,” J. Opt. Soc. Am. 71 811（1981）
[16] Ph. Lalanne and P. Chavel, Ed.,Perspectives for parallel optical
interconnects, Springer Verlag, Berlin, 1991.
[17] R. Magnusson and S. S. Wang, “Transmission bandpass
guided-mode resonance filters,” Appl. Opt. 34 8106（1995）
[18] S. S. Wang and R. Magnusson, “Design of waveguide-grating filters
with symmetrical line shapes and low sidebands,” Opt. Lett. 19 919
（1994）
[19] S. S. Wang and R. Magnusson, “Multilayer waveguide-grating
filters,” Appl. Opt. 34 2414 （1995）
[20] S. Tibuleac and R. Magnusson, “Refraction and transmission
guided-mode resonance filters,” J. Opt. Soc. Am. A 14 1617（1997）
[21] Ya Nie, Lei Wang, Zhiheng Wang and Chengjun Lai, “ Beam
selector dependent on incident angle by guided-mode resonant
subwavelength grating,” Opt. Eng., 41 2966 (2002).
[22] Donald K. Jacob, Steven C. Dunn, and M. G. Moharam, “Flat-top
narrow-band spectral response obtained from cascaded resonant
grating reflection filters,” Appl. Opt., 41 1241 (2002)
[23] Z. S. Liu, R. Magnusson, “Concept of Multiorder Multimode
Resonant Optical Filters,” IEEE Photo. Tech. Lett., 14 1091 (2002)
[24] 莊達仁, “ VLSI 製造技術”, 2002.
[25] J. Bhardwaj, H. Ashraf, J. Hopkins, I. Johnston, S. McAuley, S. Hall,
G. Nicholls, L. Atabo, A. Hynes, C. Welch, A. Barker, B. Gunn, L.
Lea, E. Guibarra, S. Watcham, “Advances in High Rate Silicon and
Oxide Etching using ICP.”
81
[26] J. Kiihamaki, H. Kattelus, J. Karttunen, S. Franssila, “Depth and
profile control in plasma etched MEMS structure”, Sensors and
Actuators, 82, 234, 2000.
[27] Masafumi Ito, Kiyoshi Kamiya, Masaru Hori, and Toshio Goto,
“Substrute reactions of Silicon nitride in a highly selective etching
process of silicon oxide over silicon nitride”, J, of Appl. Phy., 91,
No.5, 3452, 2002.
[28] R. Ramesham, C. D. Ellis, J. D. Olivas, S. Bolin, “Fabrication of
diamond membrances for MEMS using reactive ion etching of
silicon”, Thin Solid Films 330, 62, 1998.
[29] Marc Madou, Fundamentals of microfabrication, CRC Press, “Wet
Bulk Micromachining”, 145-215, 1997.
[30] J. T. Sheu, K. S. You, C. H. Wu, and K. M. Chang, “Optimization of
KOH Wet Etching Process in Silicon Nitride Nanofabrication”,
IEEE Nano, 29, 2001.

指導教授

張正陽(Jenq-Yang Chang)

審核日期

2005-7-19

推文