博碩士論文 952206052 詳細資訊




以作者查詢圖書館館藏 以作者查詢臺灣博碩士 以作者查詢全國書目 勘誤回報 、線上人數:37 、訪客IP:3.135.206.166
姓名 林大惟(Da-wei Lin)  查詢紙本館藏   畢業系所 光電科學與工程學系
論文名稱 矽量子點氮化矽薄膜應用於矽基太陽能電池抗反射層之研究
(Application of Silicon-rich-Nitride film in ARC of Si-based Solar Cell)
相關論文
★ 富含矽奈米結構之氧化矽薄膜之成長與其特性研究★ 導波共振光學元件應用於生物感測器之研究
★ 具平坦化側帶之超窄帶波導模態共振濾波器研究★ 低溫成長鍺薄膜於單晶矽基板上之研究
★ 矽鍺薄膜及其應用於光偵測器之研製★ 低溫製備磊晶鍺薄膜及矽基鍺光偵測器
★ 整合慣性感測元件之導波矽基光學平台研究★ 矽基光偵測器研製與整合於光學波導系統
★ 光學滑鼠用之光學元件設計★ 高效率口袋型LED 投影機之研究
★ 在波長為532nm時摻雜鉬之鈦酸鋇單晶性質研究★ 極化繞射光學元件在高密度光學讀取頭上之應用研究
★ 不同溫度及波長之摻銠鈦酸鋇單晶性質研究★ 經氣氛處理之鈦酸鋇單晶其光折變性質及電荷移轉與波長的關係
★ 在不同溫度時氣氛處理鈦酸鋇單晶性質之比較★ 摻銠鈦酸鋇單晶的氧化還原與光折變性質
檔案 [Endnote RIS 格式]    [Bibtex 格式]    [相關文章]   [文章引用]   [完整記錄]   [館藏目錄]   [檢視]  [下載]
  1. 本電子論文使用權限為同意立即開放。
  2. 已達開放權限電子全文僅授權使用者為學術研究之目的,進行個人非營利性質之檢索、閱讀、列印。
  3. 請遵守中華民國著作權法之相關規定,切勿任意重製、散佈、改作、轉貼、播送,以免觸法。

摘要(中) 矽基太陽能電池的轉換效率,主要受限於兩類的能量損耗,其中一類是光子能量遠高於材料能隙時造成聲子散射的效應減少光能轉換成電能的機率形成熱能而散失。所以本論文探討的主題是利用成長矽量子點於氮化矽基質中取代一般氮化矽抗反射膜作為一光子轉換層,將高能量光子透過量子點轉換成低能量光子再吸收,預期能提升光子吸收機率,進而增加太陽能電池轉換效率。實驗中利用PECVD,通入SiH4和NH3作為反應氣體,改變NH3氣體的流量,當過量的Si原子無法和N原子反應析出形成結晶矽量子點。
藉由NH3流量的調變,改變了矽量子點的尺寸,造成矽量子點發光波長的變化。低NH3流量有較大矽量子點尺寸而發光波長較長,也就是能隙較小。沉積功率對矽量子點生成的大小只有微幅調變的效應,發光頻譜差異不大,低功率下發現發光強度較強。對矽量子點影響較大的因素是沉積溫度,低沉積溫度下矽量子點發光頻譜向短波長移動,也就是矽量子點尺寸較小,但膜層折射率較低符合抗反射層需求。
選用SiH4/NH3流量比為120/10 sccm、100℃和50W的條件沉積矽量子點抗反射膜於多晶矽太陽能電池上,效率的量測結果顯示,轉換效率達到12.12%,提升了百分之11%。
摘要(英) The best conversion efficiency reported for crystalline Si solar cell is about 25%, which is very close to the theoretical limit. This limitation is the result of energy-loss processes inherent to the semiconductor materials and it can be divided into two categories. One of them is the high-energy losses resulting from the loss of excess energy of photogenerated carriers, as a consequence of phonon scattering. So, in this thesis we want to use a non-stoichiometric Silicon nitride layer containing Si quantum dots as photon-down converter which can convert high-energy photons into lower energy photons more easily absorbed by Si solar cell. We also want this layer to replace traditional SiN anti-
reflection coating of Si-based solar cell.
In the experiment process, we use SiH4 and NH3 as reaction gas to form Si quantum dots in SiN matrix. Decreasing the NH3 gas flow rate which increase the size of Si quantum dots. Larger size of Si quantum dot has smaller energy band gap so the larger size of Si quantum dot has longer wavelength of excitation light. The RF power has light influence on Si quantum dot formation but low RF power condition has stronger intensity of excitation light. The deposition temperature influence the formation of Si quantum dot seriously. In the low deposition temperature condition, the excitation light wavelength of Si quantum dots shift to short wavelength region and the refraction index of the film is much smaller that adaptable for anti-reflection layer of Si-based solar cell.
By applying Si-rich Nitride film to anti-reflection layer of multi-crystalline Si solar cell, the conversion efficiency increase from 10.9% to 11.12%。
關鍵字(中) ★ 矽量子點
★ 電漿輔助化學器相沈積
★ 光激發螢光
關鍵字(英) ★ photoluminescence
★ PECVD
★ quantum dot
論文目次 中文摘要 ........................................................................................................ i
英文摘要 ...................................................................................................... ii
致謝 ..................................................................................................... iii
目錄 ...................................................................................................... iv
圖目錄 .................................................................................................... vii
表目錄 ....................................................................................................... x
第一章 緒論 ............................................................................................... 1
1-1 簡介 ............................................................................................... 1
1-2 文獻回顧 ....................................................................................... 3
1-3 研究動機與目的 ........................................................................... 8
1-4 論文簡介 ..................................................................................... 11
第二章 基本原理 ..................................................................................... 12
2-1 電漿輔助化學氣相沉積原理 ..................................................... 12
2-2 矽量子點理論 ............................................................................. 16
2-2-1 發光原理 ..................................................................................... 16
2-2-2 尺度縮小造成的量子侷限效應 (Quantum confinement
effect) .......................................................................................... 18
2-2-3 表面能態效應 (Surface –state effect ) ...................................... 18
2-3 太陽能電池簡介及其工作原理 ................................................. 21
2-3-1 太陽能電池簡介 ......................................................................... 21
2-3-2 工作原理 ..................................................................................... 21
2-3-3 太陽能電池效率 ......................................................................... 21
2-4 抗反射膜理論 ............................................................................. 24
第三章 實驗架構與特性量測 ................................................................. 26
3-1 實驗系統 ..................................................................................... 26
3-1.1 電漿輔助化學氣相沉積系統 ..................................................... 26
3-1-2 高溫擴散退火爐 ......................................................................... 26
3-2 製備矽量子點鑲嵌於氮化矽基質 ............................................. 29
3-3 特性量測系統 ............................................................................. 31
3-3.1 UV/VIS/NIR 光譜儀 (UV/VIS/NIR Spectrum) ....................... 31
3-3-2 橢圓儀 (Ellipsometer)................................................................ 31
3-3-3 穿透式電子顯微鏡 ..................................................................... 32
3-3-4 光激發螢光光譜 (Photoluminescence Spectrum) .................... 35
3-4 多晶矽太陽能電池與抗反射層製備 ......................................... 37
3-4-1 p-n 接面製備 .............................................................................. 37
3-4-2 電極製備 ..................................................................................... 37
3-4-3 抗反射膜沉積 ............................................................................. 37
第四章 結果與討論 ................................................................................. 40
4-1 NH3 氣體流量對矽量子點的特性影響分析 ............................. 40
4-2 射頻功率對矽量子點氮化矽薄膜的特性調變......................... 53
4-3 溫度效應對矽量子點的特性影響分析 ..................................... 57
4-4 SRN 抗反射膜提升矽基太陽能電池效率討論 ........................ 59
4-4-1 抗反射頻譜分析 ......................................................................... 59
4-4-2 太陽能電池轉換效率之提升 ..................................................... 61
第五章 結論與未來展望 ......................................................................... 63
5-1 結論 ............................................................................................. 63
5-2 未來展望 ..................................................................................... 64
參 考 文 獻 ..................................................................................................... 65
參考文獻 [1] L. T. Canham , “Silicon quantum wire array
fabrication by electrochemicaland chemical dissolution
of wafers”, Applied Physics Letters, Vol. 57, pp.10
46, September 1990
[2] S. P. Withrow, C. W. White, A. Meldrum, J. D. Budai,
D. M. Hembree, J.C. Barbour, ”Effects of hydrogen in
theannealing environment on photoluminescence from Si
nanoparticles in SiO2”, Journal of Applied Physics,
Vol. 86, pp.396, July 1999
[3] N. M. Park, C. J. Choi, T. Y. Seong, S-J Park,
“Quantum confinement in amorphous Silicon quantum dots
embedded in Silicon nitride”, Physical Review
Letters, Vol. 86, pp. 1355, February 2001
[4] N. M. Park, S. H. Kim, G. Y. Sung, S. J. Park,
“Growth and size control of
amorphous Silicon quantum dot using SiH4/N2 plasma”,
Chemical Vapor Deposition, No.6, pp. 254, August 2002
[5] T. Y. Kim, N. M. Park, K. H. Kim, G Y Sung, “Quantum
confinement effect of Silicon nanocrystals in-situ
grown in Silicon nitride films”, Applied Physics
Letters, Vol. 85, pp.5355, November 2004
[6] C. H Cho, B. H. Kim, T. W. Kim, S. J. Park, N. M.
Park, G. Y. Sung, “Effect of hydrogen passivation on
charge storage in Silicon quantum dots embedded in
Silicon nitride film”, Applied Physics Letters, Vol.
86, pp.143107, 2005
[7] B. H. Kim, C. H. Cho, T. W. Kim, N. M. Park, G. Y.
Sung, S. J. Park ,“Photoluminescence of Silicon
quantum dots in Silicon nitride grown by NH3 and
SiH4 ”, Applied Physics Letters, Vol. 86, pp. 011908,
2005
[8] V. Švrcek, A. Slaoui, J. C. Muller, “Silicon
nanocrystals as light converter for solar cells ”,
Thin Solid Film, pp. 384, 2004
[9] J. De la Torre, G. Bremond, M. Lemiti, G. Guillot, P.
Mur, N. Buffet,” Using silicon nanostructures for the
improvement of silicon solar cells’ efficiency”,
Thin Solid Film, pp.163, 2006
[10] M.A. Green, “Third generation photovoltaics:solar
cells for 2020 and beyond”, Physica E, Vol 14, pp.65,
2002
[11] 洪昭南、郭有斌, 「以化學氣相沉積法成長半導體薄膜」,
化工技術 ,2000
[12] 電漿輔助化學氣相沉積系統示意圖。 2008年7月10日,取自
http://tftlcd.khu.ac.kr/research/poly-Si/Image48.gif。
[13] 非直接能隙能帶結構示意圖。2008年7月10日,取自
http://www.phy.ntnu.edu.tw/demolab/phpBB/viewtopic.p。
[14] 張世育, 「矽量子點鑲嵌在氮化矽薄膜之合成與光學性質研
究」,中華大學,碩士論文 民國九十四年
[15] 太陽能電池示意圖。2008年7月10日,取自
http://www.e-tonsolar.com/company.htm。
[16] 沈輝、曾祖勤, 太陽能光電技術,初版,五南書局,台北市,
民國九十七年
[17] 李正中, 薄膜光學與鍍膜技術,六版,藝軒書局,台北市,
民國九十六年
指導教授 張正陽(Jeng-yang Chang) 審核日期 2008-7-22
推文 facebook   plurk   twitter   funp   google   live   udn   HD   myshare   reddit   netvibes   friend   youpush   delicious   baidu   
網路書籤 Google bookmarks   del.icio.us   hemidemi   myshare   

若有論文相關問題,請聯絡國立中央大學圖書館推廣服務組 TEL:(03)422-7151轉57407,或E-mail聯絡  - 隱私權政策聲明