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姓名	張明生(Ming-Sheng Chang)  查詢紙本館藏	畢業系所	光電科學研究所碩士在職專班
論文名稱	具膜厚補償效益之新型光學監控法 (Novel monitoring method with error compensation)
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摘要(中)	於本文中，我們介紹了一種在光學鍍膜時計算變動折射率的方法。藉由光學學理的推演，以及監控圖形在每層初始點和轉折點的穿透率（或反射率）資訊，我們找出各層膜厚及折射率。進而，我們可以推算出對中心波長做膜厚誤差補償的厚度。搭配高靈敏度的監控波長，我們可以更準確的預測切點，以製鍍出更符合設計的成品。本研究成功在離子輔助電子槍蒸鍍系統中利用新型光學監控法鍍製出窄帶濾光片，達到中心波長不飄移、穿透帶半高寬更符合設計值的效果。
摘要(英)	We introduced a way to estimate the fluctuation of refractive index during thin film deposition through an optical monitor. The thicknesses and error compensated thickness for each layer were analyzed. A novel monitoring method was thereby derived. With revised refractive index and the choice of high sensitive monitoring wavelengths helps us to predict the termination points more accurately. The performance of a narrow band pass filter monitored by this method was demonstrated.
關鍵字(中)	★ 光學監控 ★ 光學薄膜 ★ 膜厚補償	關鍵字(英)	★ optical monitoring ★ error compensation ★ optical thin film
論文目次	摘要 I Abstract II 目錄 IV 圖目錄 VI 表目錄 VIII 第一章 前言 1 第二章 原理 3 2-1 光學導納的定義 4 2-2 單介面穿透與反射 7 2-3 單層膜的等效導納與膜矩陣 9 2-4 多層膜的等效導納、穿透與反射 12 2-5 導納軌跡圖 14 第三章 各種監控方式的比較 18 3-1 計時法監控 20 3-2 石英監控 21 3-3 間接監控與直接監控 22 3-4 反射式與穿透式 23 3-5 光譜法 24 3-6 極值點法與定值監控法 26 3-7 Overshoot Turning Point monitoring (OTPM) 29 3-8 導納軌跡圖監控法 31 3-9 新型光學監控法 33 第四章 新型光學監控法 34 4-1 變動折射率和各層光學厚度之計算方法 34 4-2 衍生之新型監控方法 40 第五章 實驗方法與結果 42 5-1實驗設備 42 5-2實驗方法 43 5-2-1 膜層設計 44 5-2-2 監控波長的選擇 46 5-2-2-1 極值法的監控波長 46 5-2-2-2 單一波長新型監控法的監控波長 47 5-2-2-3 多波長新型監控法的監控波長 48 5-3 實驗結果 50 5-3-1 單一波長新型監控法與極值法之比較 50 5-3-2 多波長新型監控法與極值法之比較 54 第六章 結論 56 參考資料 57
參考文獻	[1] B. Vidal, A. Fornier and E Pelletier, “Wideband optical monitoring of nonquarter wave multilayer filter,” Appl. Opt., 18, pp.3851-3856. (1979) [2] Macleod H. A., “Monitor of optical coatings,” Appl. Opt., 20, pp. 82-89(1981). [3] H. A. Macleod, “Turning value monitoring of narrow-band all-dielectirc thin-film optical filters,” Optica Acta, 19, pp. 1-28(1972). [4] C.J. van der Laan, “Optical Monitoring of Nonquarterwave Stacks,” Applied Optics, Vol.25, pp.753-760(1986). [5] Cheng-Chung Lee, Kai Wu, Chien-Cheng Kuo and Sheng-Hui Chen, “Improvement of the optical coating process by cutting layers with sensitive monitor wavelength,” Optics Express, 13, pp. 4854-4861(2004) [6] B. Vidal, A. Fornier, and E. Pelletier, “Optical monitoring of nonquarterwave multilayer filters”, Appl. Opt. 17, 1038~1047(1978). [7] 李正中，薄膜光學鍍膜技術，第五版，藝軒出版社，台北市， 2006年。 [8] H.A. Macleod, Thin-Film Optical Filters, McGraw Hill, New York, 1986. [9] Ronald R. Willey, “Optical thickness monitoring sensitivity improvement using graphical methods”, Appl. Opt. 26, 729(1987). [10] C. Grbzes-Besset, F. Chazallet, G. Albrand, and E. Pelletier, “Synthesis and research of the optimum conditions for the optical monitoring of non-quarter-wave multilayers”, Appl. Opt. 32 , 5612~5618(1993). [11] H.A. Macleod, “Monitoring of optical coatings”, Appl. Opt. 20, 82~89(1981). [12] Bradley Bobbs and J. Earl Rudisill, “Optical monitoring of nonquarterwave film thicknesses using a turning point method”, Appl. Opt. 26, 3136~3139(1987). [13] 陳裕仁，「利用導納軌跡圖做膜成長的光學監控」，國立中央大學，碩士論文，民國93年。 [14] Cheng Zang, Yongtain Wang, and Weiqiang Lu, “A single-wavelength monitor method for optical thin-film coatings,” Opt. Eng., 43, pp. 1439-1443(2004). [15] H. A. Macleod, “Error compensation mechanisms in some thin-film monitor systems,” Opt. Acta, 17, pp. 907-930(1977). [16] Stephane Larouche, Aram Amassian, Bill Baloukas, and Ludvik Martinu, “Turning-point monitoring is not simply optical thickness compensation,” Optical Interference Coatings Ninth Topical Meeting, TuE8(2004). [17] P. Bousquet, A. Fornier, R. Kowalczyk, E. Pwlletier, and P. Roche, “Optical filters: monitoring process allowing the auto-correction of thickness errors,” Thin Solid Films, 13, pp. 285-290(1972)
指導教授	李正中(Cheng-Chung Lee)	審核日期	2007-7-20
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