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[電機工程研究所] 博碩士論文
2016-08-29
利用電漿處理之氧化鉿/氧化鋁/砷化銦金氧半電容界面缺陷研究;Investigation on the Interfacial Traps of Plasma-Treated HfO2/Al2O3/InAs MOS Capacitors
何恭榜
;
He,Gong-Bang
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