Growth of size-tunable periodic Ni silicide nanodot arrays on silicon substrates

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題名:	Growth of size-tunable periodic Ni silicide nanodot arrays on silicon substrates
作者:	Cheng,S. L.;Lu,S. W.;Wong,S. L.;Chen,H.
貢獻者:	化學工程與材料工程研究所
關鍵詞:	NANOSPHERE LITHOGRAPHY;CMOS TECHNOLOGIES;THIN-FILMS;FABRICATION;NISI2;MODEL
日期:	2006
上傳時間:	2010-07-06 16:18:49 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The fabrications of size-tunable periodic arrays of nickel metal and silicide nanodots on (001)Si substrates using polystyrene (PS) nanosphere lithography (NSL) and heat treatments have been investigated. The growth of epitaxial NiSi2 was found to be more
關聯:	APPLIED SURFACE SCIENCE
顯示於類別:	[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文

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