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    題名: Reduction of photoresist usage during spin coating
    作者: Chou,FC;Wang,MW;Gong,SC;Yang,ZG
    貢獻者: 機械工程研究所
    關鍵詞: NON-NEWTONIAN FLUIDS;ROUGH ROTATING-DISK;THIN LIQUID-FILM;FLOW;MODEL;SHEAR
    日期: 2001
    上傳時間: 2010-07-06 16:36:47 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: To reduce the photoresist usage and understand the film spreading process, this study performs flow visualization experiments and numerical simulations. This paper is the first work to show that in the early stage of the spin coating process, the spreadin
    關聯: JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
    顯示於類別:[機械工程研究所] 期刊論文

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