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    题名: Annealing dependence of residual stress and optical properties of TiO2 thin film deposited by different deposition methods
    作者: Chen,Hsi-Chao;Lee,Kuan-Shiang;Lee,Cheng-Chung
    贡献者: 薄膜技術研究中心
    关键词: ION-ASSISTED DEPOSITION;COLUMNAR MICROSTRUCTURE;OXIDE FILMS
    日期: 2008
    上传时间: 2010-07-07 15:47:00 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Titanium oxide (TiO2) thin films were prepared by different deposition methods. The methods were E-gun evaporation with ion-assisted deposition (IAD), radio-frequency (RF) ion-beam sputtering, and direct current (DC) magnetron sputtering. Residual stress
    關聯: APPLIED OPTICS
    显示于类别:[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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