Fluoride antireflection coatings deposited at 193 nm

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题名:	Fluoride antireflection coatings deposited at 193 nm
作者:	Liu,Ming-Chung;Lee,Cheng-Chung;Liao,Bo-Huei;Kaneko,Masaaki;Nakahira,Kazuhide;Takano,Yuuichi
贡献者:	薄膜技術研究中心
关键词:	MICROSTRUCTURAL PROPERTIES;OPTICAL COATINGS;THIN-FILMS;ULTRAVIOLET;MGF2;LITHOGRAPHY;EVAPORATION;GROWTH;BOAT
日期:	2008
上传时间:	2010-07-07 15:47:08 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Antireflection coatings for 193 nm composed of low-index (MgF2 and AlF3) and high-index (LaF3 and GdF3) materials are deposited by the resistive heating boat method at a substrate temperature of 300 degrees C. The optical characteristics (reflectance and
關聯:	APPLIED OPTICS
显示于类别:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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