Process for deposition of AF(3) thin films

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題名:	Process for deposition of AF(3) thin films
作者:	Liao,Bo-Huei;Liu,Ming-Chung;Lee,Cheng-Chung
貢獻者:	薄膜技術研究中心
關鍵詞:	MICROSTRUCTURE-RELATED PROPERTIES;MAGNESIUM FLUORIDE FILMS;193 NM;BOAT EVAPORATION;OPTICAL COATINGS;ULTRAVIOLET;LITHOGRAPHY
日期:	2008
上傳時間:	2010-07-07 15:47:13 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	We fabricated aluminum fluoride (AIF(3)) thin films by pulsed DC magnetron sputtering with various CF4 flow rates and sputtering powers. Our method is distinct from the conventional deposition process in that we used inexpensive Al (99.99% purity) as the
關聯:	APPLIED OPTICS
顯示於類別:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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