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    題名: Residual stress in Ta2O5-SiO2 composite thin-film rugate filters prepared by radio frequency ion-beam sputtering
    作者: Tang,Chien-Jen;Jaing,Cheng-Chung;Lee,Kuan-Shiang;Lee,Cheng-Chung
    貢獻者: 薄膜技術研究中心
    關鍵詞: INTERNAL-STRESS;FABRICATION;THICKNESS;LAYERS
    日期: 2008
    上傳時間: 2010-07-07 15:47:16 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Ta-Si oxide composite thin-film rugate filters were prepared by radio frequency ion-beam sputtering and their residual stress and substrate deflections were measured. The residual stress and substrate deflection of these composite film rugate filters were
    關聯: APPLIED OPTICS
    顯示於類別:[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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