English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 78818/78818 (100%)
造訪人次 : 34698200      線上人數 : 1524
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/3857


    題名: 覆晶接點與錫電路之電遷移微結構變化模式研究;Electromigration Induced Microstructure change in Flip Chip Solders Joint and Tin Stripe
    作者: 胡應強;Ying-Chiang Hu
    貢獻者: 化學工程與材料工程研究所
    關鍵詞: 固態擴散;微結構;電遷移;錫電路;銲料;solid state diffusion;Microstructure;Tin stripe;electromigration;solder
    日期: 2004-11-23
    上傳時間: 2009-09-21 12:24:23 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 摘要 電遷移效應對金屬導線的影響,一直被人們重視,近年來由於半導體與微機電工業之興起,大電流對微細化電路之影響,顯得特別重要,本文針對微細之錫導線與覆晶式共晶錫鉛接點在常溫下(30oC)與高溫下(100oC,70 oC)通入電流密度4 Abstract The electromigration failure mechanism in conducting wire and solder joints through the large current density was studied in detail. When environmental temperature was changed to room temperature, 70 oC and 100oC with a nominal current density of 4
    顯示於類別:[化學工程與材料工程研究所] 博碩士論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明